판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9267680

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ID: 9267680
CVD System, 6" Includes: (2) CVD Chambers TEOS.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 반도체 및 전자 산업의 광범위한 재료를 처리하도록 설계된 CVD (Advanced Chemical Vapor Deposition) 원자로입니다. 그것은 큰 챔버와 넓은 공정 창이있는 단일 웨이퍼, 선형 구동, 유도 결합 플라즈마 원자로입니다. AMAT P-5000은 In-Situ Process Monitoring, 특허받은 드릴링 검증 장비 (Drilling Verification Equipment) 및 빠른 응답 시간으로 정확하고 실시간 프로세스 제어를 위한 고급 가스 전달 시스템으로 설계되었습니다. 즉, 뛰어난 균일성 (unifority) 과 높은 처리량 (throughput) 과 엄격한 프로세스 제어를 통해 반복 가능하고 안정적인 처리를 가능하게 합니다. APPLIED MATERIALS P 5000의 챔버 크기는 375mm이며 최대 300mm 웨이퍼를 수용 할 수 있습니다. 높은 종횡비와 3D 구조를 처리하도록 최적화되었습니다. 특허를받은 선형 "X-Drive" 를 통해 P 5000은 0.1 µm 플라즈마 제어 및 전체 웨이퍼 흔들기를 제공하여 웨이퍼 표면의 균일 성을 향상시킬 수 있습니다. 증착 균일성을 최적화하기 위해 고급 팬 제어 장치 (fan control unit) 가 장착되어 있습니다. P-5000 원자로는 성능과 더불어 긴 수명 주기를 위해 설계되었으며 TCO (총소유비용) 를 위해 최적화되었습니다. 낮은 진동 성분, 높은 절연 및 낮은 입자 수 재료로 견고하게 제작되었습니다. 또한 AMAT P 5000 은 간편한 유지 관리를 위해 최적화된 엔지니어링 시스템을 갖추고 있으며, 가격 대비 서비스 계약이 필요하지 않습니다. APPLIED MATERIALS P-5000 은 운영 제품군과 완벽하게 통합되는 프로세스 컨트롤러 (Process Controller) 및 진단 머신 (Diagnostic Machine) 을 통해 실시간 프로세스 모니터링 및 제품 추적 기능을 제공합니다. Factory Talk Production Centeral, Solectron의 WATRM 및 Applied의 독점 CMP Lite 등 거의 모든 종류의 업계 표준 레시피 및 데이터베이스 시스템과 통신 할 수 있습니다. 또한 생산량 및 주기 시간을 개선하기 위해 다단계 생산 프로세스 최적화를 제공합니다. AMAT P5000은 산화물, 질화물, 금속, 다이아몬드와 같은 탄소 및 유기 필름을 포함한 광범위한 물질을 지원합니다. 이 원자로는 특히 고급 상호 연결, 하이-k 메모리 및 논리, MEMS 및 센서, III-V 옵토 전자 장치 및 OLED 디스플레이에 적합합니다. APPLIED MATERIALS P5000은 또한 3D 응용 프로그램 및 메모리 장치에 우수한 단계 범위와 긴 증착 수명을 제공합니다. P5000은 반도체, 전자 및 산업 프로세스에 적합한 고급 CVD 도구입니다. 강력한 선형 드라이브, 완전한 웨이퍼 흔들림, 정확한 프로세스 제어를 통해 혁신적인 성능을 제공합니다. 원자로는 균일성, 처리량, 수명이 긴 정밀하고 반복 가능한 증착을 위해 설계되었습니다.
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