판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9262471

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9262471
SACVD / PECVD / WCVD System.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 집적 회로 제조에 사용되는 고급 플라즈마 처리 도구입니다. 균일 한 특성을 가진 고밀도, 초저온, 금속 나노 패턴을 생산하도록 설계되었습니다. 이러한 기능에는 현장 진단 시스템 (in-situ diagnostics system) 과 자동화된 무선 주파수 발생기 (radio-frequency generator) 가 포함되어 있어 플라즈마 처리를 반복하고 안정적으로 수행할 수 있습니다. 또한, 고급 디자인은 제품 품질을 최적화하기 위해 전극과 기판 영역 사이에 매우 높은 종횡비 (aspect ratio) 를 제공합니다. AMAT P-5000 원자로는 이온 원, 이오나이저 및 기판으로 구성됩니다. "이온 '원 은" 플라즈마' 를 수용 하고 "마이크로 '파" 에너지' 에 의해 움직 이는 세라믹 챔버 이다. 이오나이저는 가스 분자를 양성 및 음성 이온으로 분해하기 위해 매우 강한 전기장을 생성하는 반면, 기질은 MONO (Metal-Oxide-Nitride-Oxide) 층을 보유합니다. 방에 위치한 로팅 정전극 (roatating capacitive electrode) 은 회전 배열의 결과로 전체 기질에 대한 플라즈마의 균일 성을 유지하는 데 도움이됩니다. APPLIED MATERIALS P 5000은 종합적인 다단계 플라즈마 처리 프로세스를 사용하여 고밀도, 10nm 이하의 해상도를 달성합니다. 여기에는 초기 혈장 전 생성 단계 및 산화물 에칭 (oxide etching), 주 가스 단계 (main gas step), 청소 및 처리 후 단계로 끝납니다. 전처리 단계는 저온 (low-temperatement) 과정을 보장하고 패턴을 생성하기 전에 기판을 청소합니다. 그것 은 또한 "플라즈마 '의 높은" 이온' "에너지 '와 고온 때문 에 식각제 역할 을 할 수 있다. 주 가스 단계는 기판을 활성화시키는 다양한 가스와 패턴 화 된 MONO 레이어를 에치/제거 (etch/remove) 로 구성됩니다. 마지막으로, 클리닝 단계는 기판 표면에서 잔류 가스를 제거하고 MONO 레이어의 무결성을 복원합니다. P5000 의 탁월한 성능으로 모든 문제의 원인과 시간을 파악할 수 있는 현장 진단 시스템 (in-situ diagnostics system) 을 통해 정교한 고품질 장치를 생산할 수 있습니다. 이는 자동화된 무선 주파수 발생기 (radio-frequency generator) 와 결합하여 전체 기판에 대해 일관된 균일성을 유지함으로써 기업에 대한 경쟁 우위를 보장합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000은 고객의 요구에 따라 맞춤형 설계를 가능하게 해줍니다. 전반적으로, APPLIED MATERIALS P-5000은 균일 한 특성을 가진 초정밀 금속 나노 패턴 생산을 돕는 고급 플라즈마 가공 도구입니다.
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