판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9236898

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 원자로 (Reactor P5000 Reactor) 는 반도체 제조 분야에 널리 사용되는 장비로, 가장 기술적으로 첨단 및 다용도 원자로 중 하나로 널리 알려져 있습니다. 이 원자로는 반도체 실험실에서 사용되는 유명한 CVD (Chemical Vapor Deposition) 원자로의 완벽한 버전입니다. AMAT P-5000 Reactor는 속도, 혁신적인 디자인, 유연성, 반도체 제조업체의 수요 증가에 부응하는 능력으로 유명합니다. 이 원자로는 PECVD와 PVD 챔버의 두 개의 별개의 챔버로 구성되며, 동시에 in-situ 작업을 수행합니다. PECVD 챔버는 박막 형성을 위해 설계되었으며, PVD 챔버는 증착 또는 에칭 프로세스에 사용됩니다. 또한, 이 원자로에는 반도체 제조 공정에 대한 탁월한 선택이 될 수있는 몇 가지 기능이 있습니다. 이 원자로는 자동 레시피 컨트롤 (Automated Recipe Control), 이중 프로세스 웨이퍼 (Dual Process Wafer) 및 자동 웨이퍼 매핑 시스템 (Automated Wafer Mapping System) 등 다양한 요구 사항에 대한 여러 가지 수정 사항을 갖추고 있습니다. 또한, APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor는 개선 된 멀티 스테이션 플라즈마 소스와 함께 고급 히터 설계를 갖추고 있으며, 프로세스 균일성과 뛰어난 반복성을 보장하며 웨이퍼 온도 변화를 크게 줄입니다. 또한, 이 원자로는 다양한 사전 적용 냉각수 시스템과 완전히 호환되며, 고유 한 공정 특유의 개폐식 노즐을 통해 처리량을 극대화합니다. 또한, 고급 챔버는 매우 정확한 온도 조절 시스템을 사용하여 최적의 성능을 보장합니다. 또한 P5000 Reactor 는 프로세스 모니터링 및 최적화 기능을 활용하여 최대의 생산성과 생산성을 보장합니다. 또한, 원자로는 업계 최고의 진공 장치 (vacuum unit) 로 설계되어 매우 깨끗하고 재현 가능한 설정을 매우 안전하고 효율적으로 제공합니다. 전반적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reactor는 엄청난 다용도, 유연성 및 고급 기술 기능으로 인해 반도체 제조업체들 사이에서 선호되는 선택입니다. 이 원자로는 수율, 생산성, 프로세스 재생성을 극대화하는 동시에, 매우 안전한 작업 환경을 제공하도록 보장됩니다. 따라서, 이 기계는 모든 반도체 제조업체의 프로세스에 이상적이며, 원활하고 성공적인 운영을 촉진하는 데 도움이 될 것입니다.