판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9236839

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 다양한 재료를 생산하기 위해 설계된 고성능 플라즈마 에치 (Plasma Etch) 공정 장비입니다. 청정실 환경에서 작동하는 완전 자동화 원자로입니다. AMAT P-5000은 고급 이중 주파수 플라즈마 (dual-frequency plasma) 기술을 사용하여 프로세스 정밀도를 높이고 평균 처리량을 초과합니다. 이는 반도체 소자 생산, 연구· 개발 등 첨단 과학 공정 등 응용에 이상적이다. APPLIED MATERIALS P 5000에는 2700 와트의 고주파 RF 전원이 장착되어 있으며, 전체 작업 표면에 높은 균일성 플라즈마 프로파일을 제공 할 수 있습니다. 또한 장치 특정 영역에서 에칭 플라즈마의 농도를 조정하여 복잡한 모양과 피쳐를 에칭 할 수 있도록 하는 이중 대상 플라즈마 (Dual-Target) 플라즈마 (Plasma) 소스가 포함되어 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000에는 오픈 아키텍처 소프트웨어 제품군과 작업 자동화/로봇 툴이 포함되어 있습니다. APPLIED MATERIALS P5000 시스템의 전체 설계는 모듈식 및 확장 가능한 프레임 워크를 기반으로합니다. 이 설계는 프로세스 확장성과 높은 처리량을 제공합니다. 이 장치는 또한 온도, 압력, 진동 관리 제어 시스템 등 다양한 환경 제어 및 지원 시스템을 갖추고 있습니다. 이렇게 하면 안정적이고, 반복 가능한 프로세스 결과를 보장할 수 있으며, 시스템 다운타임 및 관련 운영 손실 가능성을 줄일 수 있습니다. APPLIED MATERIALS P-5000은 고급 포장, 복합 반도체 제작, 생의학 장치 제작 및 MEMS 생산과 같은 여러 산업에서 사용하도록 설계되었습니다. 또한 서피스 수정, 에칭 (etching) 과 같은 재료 과학 응용 프로그램에도 사용되며, 높은 정밀도 표면 피쳐와 저해상도 효과가있는 패턴을 만들 수 있습니다. AMAT P5000 (AMAT P5000) 은 다양한 생산/연구 프로세스에서 활용할 수 있는 고급 제어 기능을 갖춘 고성능 자동화된 원자로입니다. 모듈식 설계로 복잡한 에치 (etch) 프로세스를 처리 할 수있는 반면, 고출력 RF 소스 및 듀얼 타겟 플라즈마 소스는 뛰어난 정밀도 및 처리량을 제공합니다. 독보적인 자동화/로봇 (automation/robotics) 툴 제품군과 다양한 환경 제어 기능이 추가된 P5000은 반복 가능하고 안정적인 성능을 필요로 하는 모든 어플리케이션에 이상적인 선택입니다.