판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9226363

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9226363
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1991
CVD System, 6" 1991 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 높은 생산성 및 정전식 에칭 어플리케이션을 위해 설계된 넓은 면적의 단일 웨이퍼 전원 원자로입니다. 5 인치 웨이퍼 기능을 갖춘 최초의 파워 에처입니다. 이 도구에는 다중 레벨 양방향 플라즈마 소스, 5 번째 전극 옵션이있는 4 개의 전극 및 조절 가능한 이중 이온 기반 창이 있습니다. 대용량 에칭 챔버 (Large Area Etching Chamber) 는 단일 배치에서 최대 5 개의 웨이퍼를 허용하여 프로세스 주기를 줄여 처리량을 높입니다. AMAT P-5000 (AMAT P-5000) 은 여러 가스 분사 포트를 갖추고 있으며, 에칭 챔버에 더 많은 가스를 주입하여 에칭 프로세스 일관성 및 제어가 향상됩니다. 이 도구에는 에칭 챔버 (etching chamber) 의 모든 웨이퍼에 균일 한 냉각을 제공하는 뒷면 냉각 어셈블리도 포함되어 있습니다. 이것은 각 웨이퍼가 균일 한 에칭 및 냉각을 받도록 도와줍니다. 이 도구는 또한 자동 가스 레벨 링, 온도 조절 및 RF 실시간 프로세스 모니터링 시스템을 갖춘 통합 프로세스 모니터링 시스템을 제공합니다. 통합 전원 공급 장치 (Integrated Power Supply) 는 에칭 챔버의 전원 수준을 제어하고, 가스 흐름 제어 (Gas Flow Control) 는 웨이퍼를 가로지르는 가스 흐름을 모니터링합니다. APPLIED MATERIALS P 5000에는 정확하고 반복 가능한 에칭 결과를 보장하기 위해 자동 프로세스 추적 시스템도 있습니다. P 5000 에는 프로세스 매개변수를 사용자 정의하여 원하는 제품 결과를 얻을 수 있도록 하는 고급 (Advanced) 프로세스 제어가 있습니다. 여기에는 현재 수준 에칭 (etching current level), 최고 전력 및 지속 시간 (peak power and duration) 및 다른 매개변수 중에서 RF 펄스의 너비를 조정하는 기능이 포함됩니다. 이 기능을 사용하면 고급 제조 프로세스에 도구가 특히 적합합니다. P-5000은 또한 확장 된 실딩 커버 트레이 (Shielding Cover Tray), 금속 충돌 감지 및 제한된 방사선 누출을 포함한 다양한 안전 기능을 제공합니다. 또한 웨이퍼 파손 및 기타 안전 경보를 자동으로 감지합니다. 요약하면, AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000은 높은 생산성 및 정전식 에칭 어플리케이션을 위해 설계된 넓은 영역, 단일 웨이퍼 전원 원자로입니다. 다중 레벨 양방향 플라즈마 소스, 5 번째 전극 옵션이있는 4 개의 전극 및 조절 가능한 이중 이온 기반 창이 특징입니다. 또한 통합 프로세스 모니터링 (Integrated Process Monitoring), 고급 프로세스 제어 (Advanced Process Control), 다양한 안전 (Safety) 기능이 포함되어 있어 고급 제조 프로세스에 이상적입니다.
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