판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9171284

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 플라즈마 환경의 반도체 웨이퍼에 박막 코팅을 입금하도록 설계된 증착 원자로입니다. 원자로는 실리콘, 이산화규소, 3 차원 (3D) 트랜지스터 및 광자 집적 회로와 같은 반도체 재료와 함께 작동하도록 특별히 설계되었습니다. 대형 웨이퍼 영역 (wafer area) 을 전달하고 파인 라인 사진 촬영 (fine line photolithography) 과 관련된 민감도를 쉽게 처리 할 수 있으며, 이는 제조 과정에서 더 높은 수율을 초래합니다. AMAT P-5000 챔버에는 고급 공정 리프트 메커니즘이있는 팔각형 받침대가 있습니다. 이로써 "웨이퍼 '와 상부 전극 사이 의 거리 를 일정하게 유지 함 으로써 처리 중 에" 웨이퍼' 의 위치 와 안정성 이 정확 하다. 리프트 메커니즘은 오염 및 웨이퍼 브레이크 (wafer breakage) 를 줄이고 다른 재료의 처리 매개변수를 미세 튜닝하는 데 사용될 수 있습니다. APPLIED MATERIALS P 5000은 독특한 듀얼 건 소스 디자인을 통합하여 증착 프로세스 전체에서 높은 균일성을 달성합니다. 이중 총은 2 개의 전자 사이클로트론 공명 (ECR) 플라즈마 소스를 특징으로하여 비 균일 성을 최소화합니다. P-5000 은 또한 독점적 인 고급 전력 분배 모듈 (Advanced Power Distribution Module) 을 갖추고 있어 ECR 플라즈마 소스에서 웨이퍼까지 안정적이고 균일 한 전력 분배를 보장합니다. P5000 은 전원 모듈 외에도 특허를 획득한 "가스 '배치 장비를 활용하여 대상 가스 증착을 지원합니다. 이 "시스템 '은 여러 가지" 가스' 원 을 제어 하고, "가스 '조리법 을 미세 하게 조율 하여 증착 속도, 균일성 및 증착 특성 을 최적화 할 수 있다. 전용 소프트웨어 제어 프로세스 관리 장치는 시스템의 '뇌' 역할을합니다. 이 도구는 레시피 매개변수와 유지 보수 주기 (maintenance cycle) 를 자동으로 제어하여 프로세스 효율성을 최적화하기 위해 설계되었습니다. 이는 완료 시간을 줄이고 생산 수율을 증가시킵니다. 전반적으로, AMAT P5000 (AMAT P5000) 은 광범위한 반도체 응용 분야에 대해 우수한 공정 결과를 제공 할 수있는 매우 다재다능한 증착 원자로입니다. SMB (Small Scale Deposition Run) 및 대규모 Deposition Run을 모두 지원하는 탁월한 성능을 제공하며, 기존 Deposition Chamber에 비해 가동 시간 및 비용 절감 효과를 제공합니다.