판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9133091

AMAT / APPLIED MATERIALS P5000
ID: 9133091
Metal etch, 8" System Features: 1. Top-Mounted electronics: NO 2. Meets CE Mark Requirements: NO 3. System monitors: YES 4. Robot Handler Rev: Phase III(Overhaul Complete) 5. Cassette Handler Rev: Phase III 6. Factor Automation: NO 7. Storage Elevator Position Sensor: NO 8. Storage Elevator Wafer Orienter: NO 9. Elevator Brakes: YES 10. Storage Elevator Slots: 8 11. Load Lock Purge: NO 12. Load Lock Chamber Bolt Down Lid: YES 13. Load Lock Lid Lift: NO 14. Wafer Position Sensor: YES 15. I/O Wafer Sensor: YES 16. Slow Pump Hardware Installed: NO 17. Foreline Fittings for TC and N2 Purge: VCR Type 18. Load Lock Pump Type: NO Pump 19. Load Lock Pump Brand: N/A Mainframe 1. Load Lock Degasser: N/A 2. Wafer Orienter Chamber: N/A 3. Endpoint System: Extrenal Emmision 4. Neslab Water Plumbing on Facilities Panel: YES 5. Heat Exchanger Plumbing on Facilities Panel: YES 6. Endpoint System: NONE 7. Robot Type: Phase III 8. Robot Condition: Good condition 9. Lower Circuit Breaker Panel: Present 10. Buuffer Chamber Condition: Good condition Electronics: 1. Boss PROM: Unable to check. System not powered up. 2. Single Board Computer Type: Synergy 3. Software Revision: Unable to verify, System not powered up. 4. Minicontroller: Present 5. Light Pens: NONE 6. Chamber Interconnect PCB: Present 7. Mini SBC PCB: Present 8. System Electronics Interface PCB: Present 9. Video PCB: Present 10. Analog Output PCB: Present 11. Analog Input PCB: Present 12. Stepper PCB's: Present 13. Digiral I/O PCB's: Present 14. TC Gauge PCB: Present 15. Chopper Drivers: One card none 16. DC Power Cards: +12v card none 17. Buffer I/O PCB: Present 18. AI / MUX PCB: Present 19. Magnet Drivers: 2 Drivers present for Etch Chambers Chamber Information: 1. Chamber A: Metal Etch MxP+ 2. Chamber B: Metal Etch MxP+ 3. Chamber C: ASP(strip) 4. Wafer Size: 200mm 5. Foreline Hardware: All Present 6. Capacitance manometers: Present 7. Wafer Lift Hardware: Present, needs servicing and clean-up. 8. Roughing Valves: Present, will need PM serviced and cleaned. 9. Throttle Valve Assemblies: All chambers present. Will need PM Seriviced. 10. RF Matches: Type 4 Matches. Etch Chambers present. Gas Box Information: 1. MFC Type: No MFC's in Gas Box at time of audit. 2. BCL3 MFC's: 3. CL2 MFC's: 4. CF4 MFC's: 5. N2 MFC's: Remote Information: 1. Heat Exchanger: AMAT 1X 1 2. Chiller: HX-150 3. RF Generators:OEM-12A & AX-2115 4. Remote Frame: Stand Alone-Delta 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 고성능 에칭 공정을 위해 설계된 180mm 건식 에치 원자로입니다. 이 장비는 매우 정밀한 에치 깊이 (etch depth), 높은 균일성 (unifority) 및 다양한 재료에 대한 탁월한 에치 선택성을 제공 할 수 있습니다. AMAT P-5000 은 고급 하드웨어와 소프트웨어를 장착하여 평면 구조와 3D 구조의 우수한 결과를 보장합니다. 하드웨어에는 식각 균일성과 효율성을 극대화하는 RF Generator와 RF Matching Unit이 포함됩니다. 이 시스템에는 반응성 가스 전달 장치, 결정 론적 동작 제어 및 폐쇄 루프 RF 전달 머신도 포함됩니다. 또한 APPLIED MATERIALS P 5000에는 Etch 레시피를 쉽게 제어하고 사용자 정의하는 제어 GUI (Graphical User Interface) 인 EtchVision과 같은 고급 제어 소프트웨어가 있습니다. 또한, P-5000은 플라즈마 챔버에서 RF 반사를 최소화하기 위해 유전체 기반 에치 챔버 (etch chamber) 를 구축하여 민감한 영역에서 RF 인공물의 가능성을 줄입니다. 응용 재료 P5000은 몰리브덴, 텅스텐, 루테늄과 같은 가장 어려운 물질을 에치하도록 설계되었습니다. 또한 오버 에치 (over-etch) 없이 여러 층의 유전체를 에칭 할 수 있습니다. AMAT P5000은 또한 최소 난방, 냉각 및 제어되지 않은 이온 영향을 가진 뛰어난 산화물 에치 특성을 제공합니다. 이 공구는 심해 (deep etch) 에 사용할 수 있으며 기판 클리닝 및 서피스 클리닝 단계 모두에 잘 작동합니다. AMAT P 5000 (AMAT P 5000) 은 다양한 재료에 대해 균일하고, 정확하며, 고성능 결과를 제공할 수 있는 강력한 에칭 도구입니다. 고급 하드웨어 (Advanced Hardware) 와 소프트웨어 (Software) 의 조합을 통해 사용자는 최소한의 노력으로 원하는 프로세스 목표에 도달 할 수 있습니다. 이 자산은 소전기, 반도체, 광전자 산업의 응용에 적합하여 민감하고 도전적인 구조를 에칭합니다.
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