판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9084588

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 원자로는 고급 전자 재료를 제작하여 광범위한 프로세스를 수행 할 수있는 고급 자동 PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) 장비입니다. AMAT P-5000 원자로는 여러 플라즈마 소스를 특징으로하며, 최대 6 개의 개별 필름을 동시에 증착 할 수 있습니다. 이를 통해 다양한 두께 (thickness), 결정 (crystallinity) 및 밀도 (densities) 에 걸쳐 장치를 생성할 수 있으며 장치 제작에서 나노미터 규모의 정확도를 달성 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS P 5000 원자로는 여러 원자로와 소스, 그리고 독립적으로 작동하는 온/오프 밸브 및 기타 구성 요소를 갖춘 구성이 가능합니다. 이를 통해 광범위한 프로세스 레시피를 개발, 실행할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 여러 전자 재료 (Electronic Material) 와 구조물 (Structure) 에서 구조를 생성할 수 있습니다. 또한 이 다중 프로세스 구성 (multi-process configuration) 은 사용자가 사용할 수 있는 프로세스 레시피 유형에 더 큰 유연성을 제공하므로 설계 요구사항이나 실험적인 요구에 따라 다양한 맞춤형 (custom-tailored) 솔루션을 사용할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS P5000 원자로는 또한 자동화 된 재료 소스 제어 시스템 (automated material source control system) 을 갖추고 있으며, 이를 통해 원자로 내 개별 반응물의 정확한 타이밍이 가능합니다. 이렇게 하면, 원하는 반응 이 기질 전체 에 균일 하게 발생 하여, 전기적· 광학적 특성 이 일치 한 균일 한 층 이 된다. 또한, P5000 원자로는 템플릿 및 멀티 레이어 필름 패턴화에 사용될 수있다. APPLIED MATERIALS P-5000 원자로는 77K ~ 650K 범위의 온도와 500mBar ~ 950mBar의 압력에서 작동 할 수 있습니다. 또한 통합 폐쇄 루프 (closed-loop) 흐름 제어 장치를 통해 처리 환경을 정확하게 제어할 수 있습니다. 즉, 디바이스에서 생산되는 레이어의 품질과 재현성을 보장하는 데 도움이 됩니다. AMAT P5000 원자로는 안정성이 뛰어나고 컴팩트하며, 많은 부품이 쉽게 제거 및 재조립할 수 있도록 설계되었습니다. 이를 통해 연구 실험실의 빠른 프로토 타입 (prototyping) 에 이상적인 선택으로, 빠른 제품 개발을 가능하게하며, 새로운 전자 재료를 보다 빠르게 시장에 출시할 수 있습니다. 결론적으로, AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 원자로는 다재다능하고 신뢰할 수있는 PECVD 기계로, 고급 전자 재료를 제작하는 다양한 프로세스에 사용할 수 있습니다. P-5000 원자로는 다중 플라즈마 소스, 폐쇄 루프 흐름 제어 (closed-loop flow control) 및 자동 소스 제어 도구 (automated source control tool) 를 통해 다양한 두께, 결정 성 및 밀도로 매우 균일 한 필름을 생성 할 수 있습니다. 또한, 쉽게 제거 및 재 조립을 통해 연구 실험실에서 빠른 프로토 타입 (prototyping) 을 선택할 수 있습니다.