판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9081365

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ID: 9081365
빈티지: 1994
System (2) Chambers Process: SIO2-depos/SiN depos/ BPSG Chemicals:Silan/N2O/NH4,PH3,C2F6,B2H6 (1) Pump (1) Chiller Software Rev.: B5.01C CE Marked: no (3) 208V 1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 박막 자기 기록 매체 제작에 사용되는 고급, 생산 규모 에치 원자로입니다. 이 장비는 정밀도, 정확도가 높은 박막 재료로 패턴을 세팅하도록 설계되었습니다. AMAT P-5000은 여러 가지 기술을 사용하여 박막 재료를 효과적으로 에치합니다. APPLIED MATERIALS P 5000은 이온 빔 에칭 (IBE) 및 무선 주파수 (RF) 에칭 기술의 조합을 사용하여 원하는 결과를 얻습니다. 이온 빔 에칭 (Ion beam etching) 은 가속 이온의 빔을 사용하여 얇은 필름 재료로 패턴을 매기는 반면, RF 에칭 기술은 단일/다중 이온 빔 노출 내에서 더 정확한 초점 프로파일을 가능하게합니다. 두 기술 모두 P 5000으로 결합하여 최대 결과와 정확도를 제공합니다. APPLIED MATERIALS P-5000에는 박막 재료의 에칭 및 노출 프로세스를 정확하게 제어하기 위해 프로그래밍 가능한 임베디드 AC 드라이브 모터가 포함되어 있습니다. 이 모터는 박막 재료의 빔 배치 및 노출을 제어하는 데 사용됩니다. AC 드라이브 모터는 또한 이온 빔 소스 (ion beam source) 와 노출 영역을 수용하는 스테이지와 트랙의 움직임을 제어합니다. 이를 통해 박막 재료는 필요한 정확한 양의 이온 빔 (ion beam) 노출에 노출됩니다. AMAT P5000은 또한 전체 이온 빔 에칭 프로세스를 모니터링, 작동 및 제어하는 데 도움이 되는 고급, 사용자 친화적 인 소프트웨어를 갖추고 있습니다. 이 소프트웨어는 사용자에게 명확한 프로세스 제어 인터페이스 (process control interface) 를 제공하여 박막 재료의 에칭 (etching) 에 대한 매개변수를 모니터링하고 설정할 수 있도록 합니다. 또한 오류 모니터링 (error monitoring) 및 경보 시스템 (alarm system) 을 사용하여 에칭 프로세스 중에 발생할 수 있는 오류나 문제에 대해서도 알림을 제공합니다. 마지막으로, P5000에는 사용 편의성 및 보호를 극대화하는 다양한 안전 기능도 포함되어 있습니다. 여러 연동에서 정교한 모니터링 시스템까지, APPLIED MATERIALS P5000은 에칭 작업을 수행 할 때 높은 수준의 안전성을 제공합니다. 이러한 기능은 에칭 (etching) 작업이 정확하고 효율적으로 수행되도록 합니다. 결론적으로, AMAT P 5000은 박막 자기 기록 매체를 제작하기 위해 설계된 고정밀, 생산 규모 에치 원자로입니다. 이온 빔 에칭 (ion beam etching) 과 무선 주파수 에칭 (radio frequency etching) 기술의 조합을 활용한 P-5000은 정확성과 정밀도를 갖춘 박막 재료를 에칭하는 데 이상적인 도구입니다. 또한 AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000에는 프로그래밍 가능한 내장 AC 드라이브 모터, 고급 사용자 친화적 소프트웨어, 운영자 보호 및 편안함을 위한 다양한 안전 기능이 포함되어 있습니다.
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