판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9056845
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판매
ID: 9056845
웨이퍼 크기: 6"
CVD System, 6"
Software rev. E5.03
(4) Chambers:
(2) TEOS deposition chambers
(2) TEOS etch chambers
Currently crated.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 고급 반도체 제조업체가 집적 회로를 제작하는 데 사용하는 고급 고성능 에치 (etch) 원자로입니다. 최신 집적회로의 마이크로구조 (micro-) 와 나노구조 (nano-structure) 스케일과 관련된 문제를 해결하도록 설계된 고압 고온에치형 원자로다. AMAT P-5000은 듀얼 주파수 웨이퍼 척을 사용하여 개별 위치를 지정하고 웨이퍼를 클램프합니다. 따라서 보다 효율적이고 정확한 에치 처리가 가능합니다. 또한, 원자로에는 에치 프로세스를 정확하게 제어하기 위해 TOFMS (multi-tone time-of-flight mass spectrometer) 가 장착되어 있습니다. 이를 통해 에치 증착이 나노 미터 수준으로 제어됩니다. APPLIED MATERIALS P 5000은 또한 고효율 RF 생성기 및 RF 전원을 사용하여 에칭 프로세스 중 전력 손실을 크게 줄입니다. AMAT P5000은 에치 프로세스를 정확하게 모니터링하기 위해 고급 자동 시스템을 사용합니다. 여기에는 처리 중 에치를 직접 시각화하기위한 고화질 디지털 카메라, 에치 챔버 (etch Chamber) 및 웨이퍼 척 (Wafer chuck) 동작을 정확하게 제어하기위한 고급 비전 및 안내 시스템이 포함됩니다. 또한, 원자로는 정교한 데이터 획득 및 처리 시스템을 사용하여 에치 (etch) 제품을 정확하고 정확하게 분석합니다. P 5000에는 적외선, 자외선, 가시 분광법, 이미징, 입자 계산 등 다양한 센서 기술이 장착되어 있습니다. 이를 통해 에치 제품의 빠르고 정확한 특성화가 가능합니다. 또한, 에치 챔버 (etch chamber) 에는 초고속 온도 측정이 장착되어 챔버 온도의 정확한 제어를 보장합니다. 또한 APPLIED MATERIALS P5000은 고급 반도체 제조에 이상적인 고급 고성능 에치 (etch) 원자로입니다. 고급 자동화 (automation) 및 정확한 제어 기능이 포함되어 있어 비용 효율적이고 정확한 집적 회로를 생산할 수 있습니다.
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