판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293690474

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 반도체 제조의 정밀 요구 사항을 충족시키기 위해 개발 된 최첨단 원자로입니다. 이 고급 에치 도구에는 비 누적 챔버, 초박형 인슐레이션 챔버, 이온 임플란테이션 챔버 (ion implantation chamber) 가 통합된 올인원 모듈이 있습니다. 프로세스 제어 및 유연성에 특별한 주의를 기울여 AMAT P-5000 원자로를 사용하면 중요한 장치 계층을 효율적으로 구성 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS P 5000은 PECVD (Advanced Chemical Vapor Deposition) 도구 및 입자 필터 장치와 함께 작동하여 정확한 전기 및 구조 특성을 가진 반도체 웨이퍼를 제공합니다. 에치 프로세스 (etch process) 를 통해 웨이퍼를 효율적으로 전송하고, 각 기판의 상단 및 하단의 라이너뿐만 아니라 자동 웨이퍼 중심 및 방향을 제공합니다. AMAT P5000 (AMAT P5000) 은 프로세스 제어 및 안전 요소 개선을 위해 이중 진공 펌프를 활용하는 향상된 챔버를 자랑합니다. 고급 챔버 디자인 (Advanced Chamber Design) 은 또한 높은 수준의 균일성을 제공하여 사용자가 전체 프로세스에 걸쳐 균일 한 전기 특성을 달성 할 수 있습니다. 원자로 제어는 에칭 프로세스에 중요하며, P 5000은 이중 독립 히터 및 온도 센서가있는 내부 온도 제어 시스템 (internal temperature control system) 을 사용하여 챔버 내에서 정확한 온도 제어를 제공합니다. 이 제어 시스템은 또한 반응성 가스의 일관된 흐름 및 압력을 보장하기 위해 사용됩니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000의 이중 이온 이식 모듈은 다양한 온도 및 기판 크기에 걸쳐 광범위한 에너지를 제공 할 수 있습니다. 이 기능은 정밀 작동을 제공하며, 사용자에게 다양한 에칭 (etching) 어플리케이션에 상당한 유연성을 제공합니다. 또한, 모듈의 빔-쉐이핑 플레이트는 균일 한 확산, 심지어 측면 벽 형성을위한 넓고 잘 초점을 맞춘 빔을 만들도록 설계되었습니다. 최첨단 엔지니어링과 전문 프로세스 기능을 결합한 AMAT P 5000 원자로는 고정밀도, 고급 에칭 어플리케이션을 위한 완벽한 선택입니다. 정교한 디자인과 신뢰할 수있는 컨트롤은 오늘날의 최첨단 (edge) 제조업체가 요구하는 정확성과 정확성을 제공합니다. 집적 회로 장치의 가장 복잡한 기능을 달성하는 APPLIED MATERIALS P-5000 원자로는 반도체 장치 제작의 에칭 단계에서 귀중한 자산입니다.