판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293609327

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 PVD (Advanced Physical Vapor Deposition) 원자로 장비로, 반도체 산업에서 복잡한 구조 및 광전자 장치의 생산을 위해 박막 증착에 사용됩니다. 이 원자로는 고온 석영 기판 홀더를 갖춘 온도가 낮은 저온 증발 소스 (low temporation source) 를 특징으로하며, 이는 안정적이고 효율적인 증착 과정을 제공합니다. AMAT P-5000에는 혁신적인 기판 전송 시스템이 포함되어 있어 분당 최대 20 개의 웨이퍼 (wafer) 를 전송하고 주기 시간이 짧아집니다. APPLIED MATERIALS P 5000에는 여러 가지 챔버 디자인이 있으며, 모두 생산성과 성능을 극대화하도록 설계되었습니다. 듀얼 포켓 디자인은 표준 및 중간 주파수 RF 플라스마를 모두 가능하게하며, 분할 포켓 디자인은 추가 가스 격리, 우수한 각도 방향 및 매우 빠른 웨이퍼 전송을 제공합니다. 모든 챔버에는 최첨단 온도 컨트롤러가 장착되어 있어 신뢰할 수있는 프로세스 제어 (process control) 및 균일 한 박막 증착이 보장됩니다. APPLIED MATERIALS P-5000은 또한 같은 프로세스 내에서 복잡한 멀티 레이어를 증설 할 수있는 멀티 레이어 박막 증착 장치 (multi-layer thin-film deposition unit) 와 같은 다른 여러 가지 고급 기술을 특징으로하며, 빠른 기판 배포를 위한 높은 처리량 배치 (high throughput batch) 기술을 제공합니다. 또한, 이 기계에는 여러 센서, 모니터, 제어 시스템이 포함되어 있으며, 이 시스템은 운영자에게 실시간 피드백 및 진단 기능을 제공합니다. 이를 통해 운영자는 필요한 경우 매개변수를 조정할 수 있으며, 프로세스 안정성과 신뢰성을 크게 향상시킬 수 있습니다. 이 도구에는 예기치 않은 고에너지 플라즈마 호의 경우 자동으로 전구체를 차단하는 자동 확대 에셋 (Auto-Magnification Asset) 과 Batch Reactor Manual Mode (Batch Reactor 수동 모드) 와 같은 여러 가지 안전 기능이 포함되어 있습니다. 또한, AMAT P 5000 모델은 헬륨 펌프 (Helium pump) 와 같은 외부 진공 펌프로 농축되어 깨끗한 프로세스 조건을 보장 할 수 있습니다. 전반적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000은 강력하고 안정적인 PVD 원자로 장비입니다. 다양한 챔버 설계, 첨단 기술, 안전 (Safety) 기능을 통해 정확하고 효율적인 증착 프로세스를 보장하고 프로세스 안정성과 안정성을 보장합니다.