판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293609012

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ID: 293609012
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1996
Etcher, 8" (3) Mark II Etch chambers: Resin/Arc, Oxide, Nitride, Silicon ENI OEM-12B Generator ESC Chuck Remote frame Does not include chiller 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 고성능 DC 다이오드 스퍼터링 및 이온 보조 증착 기술 정밀 공정 원자로 시스템입니다. 이 다용도 원자로는 스퍼터링 (Sputtering) 과 이온 보조 (ion-assisted) 증착의 이점을 결합하여 응용 프로그램에 가장 적합한 증착 기술을 사용할 수 있도록 설계되었습니다. AMAT P-5000은 전자, 광학, 반도체, 마이크로 전자, MEMS, 생의학 및 기타 여러 응용 분야를 포함하여 다양한 분야에서 사용되는 박막 표면 및 구성 요소의 제작을 위해 특별히 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS P 5000의 중심에는 정확하고 일관성 있고 반복 가능한 작동을 위해 고급 마이크로 프로세서 제어 DC 다이오드 전원이 있습니다. 전원은 최대 20kW의 전력을 공급할 수 있습니다. 다양한 요구 사항을 충족할 수 있도록 다양한 대상, 기판, 프로세스 가스를 제공합니다. APPLIED MATERIALS P-5000은 단일 셔터 사이클로 벽에서 벽까지 균일 한 고정도 증착을 제공하는 혁신적인 담요 증착 기술로 최적의 성능에 도달 할 수 있습니다. 이렇게 하면 프로세스 시간과 재료 비용을 줄일 수 있습니다. 첨단 플라즈마 원자로에는 플라즈마 챔버에서 안정적이고 균일 한 전력을 제공하는 총 4 개의 램프가 있습니다. APPLIED MATERIALS P5000은 또한 챔버의 전자 방출 속도를 제어하기위한 마그네트론을 특징으로합니다. 이를 통해 스퍼터링 속도가 빨라지고 예금의 균일성이 향상됩니다. P5000 은 다양한 추가 기능을 제공하므로 다양한 박막 (Thin-film) 기판을 성공적으로 제작할 수 있습니다. 기판 손상이 잘못 정렬되지 않도록 자동화된 인덱서가 포함되어 있습니다. 그 압력 조절 은 "챔버 '의 최적 진공 압력 을 허용 하고 그 기판 가열 기능 을 이용 하여 증착 수율 과 질 을 향상 시킬 수 있다. AMAT P 5000은 뛰어난 성능, 안정성 및 사용 편의성을 제공합니다. 보다 균일하고 정밀하게 다양한 박막 (thin-film) 기판을 효율적으로 제작할 수 있습니다. 따라서 다양한 애플리케이션을 위한 고유한 고성능 미디어를 생산할 수 있는 이상적인 도구입니다.
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