판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #293604716

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000은 반도체 생산을 위해 특별히 설계된 물리적 증기 증착 (PVD) 원자로입니다. 일반적으로 균일성이 뛰어난 박막 증착, AR (High Aspect Ratio) 하드 마스크 잉크젯 패턴, 나노 스케일 기능의 고밀도 도금, 저항 메모리 형성 등 중요한 응용 분야에 사용됩니다. 재료 간 간격 (gapfill) 과 구성 간 통제 된 화학량 론으로 복잡한 레이어 스택을 구조화하고 세밀하게 튜닝 할 수 있습니다. AMAT P-5000은 대용량 운영 실행을 위해 일관된 증착 결과를 제공하기 위해 고급 제어 기술을 보유하고 있습니다. CPC (Centralized Process Control) 장비와 강력한 3축 폐쇄 루프 시스템을 갖춘 다목적 설계입니다. CPC를 사용하면 스퍼터 증착률 (sputter deposition rate) 을 제어하는 것 외에도 프로세스 매개변수를 최적화할 수 있습니다. 가스 흐름 모델은 표준 프로세스 제어 및 조정 가능한 유속 (flow rate) 을 제공하여 원하는 증착 특성을 달성합니다. 열 처리 제어 장치를 사용하면 각 레이어의 배치, 온도, 균일 성을 정확하게 제어 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS P 5000은 모든 축 스퍼터링 기술을 사용하며, 이는 기존의 평면 스퍼터링 기술보다 더 효율적이고 일관된 결과를 제공합니다. 총 4 개의 음극, 2 개의 마그네트론 및 2 개의 회전 가능한 기둥이 있습니다. 이를 통해 프로세스 엔지니어는 프로세스 제어 (process control) 를 여러 계층에 걸쳐 최적화하여 최종 결과의 프로세스 균일성과 반복성을 높일 수 있습니다. 이 기계는 또한 "혼합 필름 (mixed-film)" 증착 방법을 사용하여 낮은 선 너비 바이어스와 부드러운 옆벽으로 완벽하게 균일 한 레이어를 만듭니다. APPLIED MATERIALS P5000은 합금, 세라믹, 폴리머 및 기능성 산화물을 포함하여 50 가지가 넘는 독특한 첨단 재료를 처리 할 수 있습니다. 표준 CMOS에서 복합 반도체에 이르기까지 다양한 기판과 호환됩니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000에는 RTP 및 C4 공정 도구가 통합되어 있으므로 사용자가 최고 품질의 결과를 얻을 수 있는 위치 정확도와 높은 표면 프로파일을 얻을 수 있습니다. 전반적으로 AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000은 고성능 반도체 생산을 위해 설계된 안정적이고 고급 증착 도구입니다. 정확한 증착 기술과 결합된 직관적인 프로세스 제어 (process control) 는 뛰어난 균일성과 반복성으로 고품질의 결과를 산출합니다. P 5000은 증설 프로세스에 효율적이고 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다.