판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #200769

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ID: 200769
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1996
Etcher, 8" (4) Chamber system Chambers: A-D with gas panel (4 etch with transfer chamber); RF Chemicals: N2, Ethylene Glycol, He, Freon, O2, Argon, Carbon Tetrafluoride No pumps 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 원자로는 박막 증착에 사용되는 화학 증기 증착 (CVD) 장비입니다. 산화물, 질화물, 금속 등 매우 다양한 물질을 증착 할 수있는 다재다능한 도구입니다. 이 시스템은 화학적 공정 (chemical process) 을 활용하여 고품질의 박막 (thin film) 을 생산하고 프로세스 제어와 유연성을 제공합니다. AMAT P-5000 원자로는 가장 인기있는 CVD 도구 중 하나입니다. 이 장치는 연구 개발 및 고품질 증착의 산업 생산을 위해 설계되었습니다. APPLIED MATERIALS P 5000은 사용자에게 친숙한 그래픽 인터페이스와 터치 스크린 기술을 갖춘 완전 자동화 머신입니다. 청소실 이나 작은 실험실 에 사용 하도록 설계 되었다. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 원자로 도구는 여러 구성 요소로 구성되어 있습니다. 첫째 로 가장 중요 한 것 은 주원자로 이며, 이 원자로 는 진공실 내부 에 있다. 주 원자로 내부에서, 가열 된 가스가 전달되고, 반응하여 원하는 얇은 필름을 만듭니다. 2 차 시스템에는 활성 가스 전달을위한 쇼어 헤드 (showerhead), 반응 챔버를 가열하기위한 소스 플라즈마 (source plasma) 및 침전물의 균일성을 결정하는 다양한 검출기가 포함됩니다. APPLIED MATERIALS P5000 자산은 광범위한 증착 프로세스를 수행할 수 있습니다. 여기에는 금속, 산화물 및 질화물의 물리적 증기 증착 (PVD) 이 포함됩니다. 효율이 높은 P 5000 원자로는 스트레스를 최소화하면서 균일성이 높은 고품질 필름을 생산할 수 있습니다. 이 모델은 또한 프로그래밍 가능한 레시피 (recipe) 와 고급 프로세스 제어 (process control) 를 제공하여 증착 매개변수를 사용자 정의하여 반복 가능한 고품질 결과를 얻을 수 있습니다. P5000 원자로는 또한 다재다능하며, 다양한 유전체 및 전도성 재료의 스퍼터 증착, 반도체 필름의 화학 증기 증착, 폴리머 및 폴리머 복합 물질의 증기 증착 등 다양한 응용을 가능하게한다. 따라서, 그것은 집적 회로 및 기타 기술의 생산에 널리 사용됩니다. 전반적으로 AMAT P5000 원자로는 박막 증착을위한 강력하고 다양한 도구입니다. 프로세스 제어, 유연성 및 반복 가능한 고품질 결과를 제공합니다. 사용자 친화적 인 인터페이스와 자동화된 운영을 통해 P-5000 장비는 품질 필름의 연구, 개발, 산업 생산에 완벽한 선택입니다.
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