판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #116968

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 원자로는 고급 반도체 장치 제조를 위해 설계된 에피 택시 증착 및 평면 화 장비입니다. AMAT P-5000 원자로는 단일 챔버 (single-chamber) 솔루션을 제공하여 광범위한 반도체 응용 분야에서 에피 택시 물질을 안정적이고 정확하게 증착 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS P 5000 원자로에는 정확한 온도 제어를 위해 5 구역, 다중 영역 컨트롤러가 장착 된 400mm 서셉터 플랫폼이 장착되어 있습니다. 기질은 챔버 하부 표면 아래에 위치한 고속, 독립적 인 전기 서셉터 코일에 의해 가열됩니다. 서셉터 플랫폼은 최대 24 개의 웨이퍼를 동시에 수용하도록 설계되었습니다. AMAT P 5000 원자로의 특허를받은 Liner-Spring (TM) 최종 이펙터는 모든 유형 및 크기의 기판을 수용하며, 다른 기판을 수용하기 위해 최종 이펙터를 교체 할 필요가 없습니다. 또한 AMAT P5000 원자로는 사용자 친화적 인 프로그래밍 가능한 소프트웨어와 다양한 기능을 제공하여 자동 압력 조절 (automatic pressure regulation), 결함 모니터링 (fault monitoring), 평판 진공 데가 (flat-plate vacuum degas) 등 생산성을 향상시킵니다. 이 시스템은 또한 하나의 조합 강화/요소 소스 (combination enrichment/element source) 와 다양한 유형의 증착을 제공하기 위해 구성 될 수있는 5 개의 원소 (elemental source) 를 포함하여 일련의 증착 소스로 구축됩니다. APPLIED MATERIALS P5000 원자로는 또한 소스 MFC (gas mass flow controller), 제거 된 입구 및 콘센트 가스 스트림, 퍼지 매니 폴드 및 각 소스마다 별도의 촉매를 포함한 고급 가스 전달 구성 요소를 갖추고 있습니다. 또한, P5000 원자로에는 반도체 소자 증착의 까다로운 작동 요건을 충족하도록 구성된 다단계 터보 분자 펌프 장치 (turbomolecular pump unit) 가 장착되어 있습니다. 이 기계는 고급 소스 (advanced source) 와 다양한 고급 재료 처리 기술 (advanced materials processing technology) 의 조합으로 설계되어 매우 깨끗한 프로세스 분위기를 보장합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000에는 'Air-Stream' 챔버라는 추가 챔버도 제공됩니다. 이를 통해 처리량이 가장 높은 장치 처리를 위해 고급 재료를 배치할 수 있는 추가 소스를 만들 수 있습니다 (영문). 공기 스트림 (air stream) 은 외부가 아닌 챔버 (chamber) 에서 직접 소스를 충전할 수 있으며 별도의 챔버 설계 (chamber design) 로 인해 원자로에 대한 가스 라인이 쉽게 제거됩니다. P 5000 원자로는 최고의 안정성과 제어를 보장하는 완벽한 도구 통합을 제공합니다. 데이터 로깅 자산 (옵션) 은 추가적인 데이터 수집 및 분석 툴을 제공하는 반면, 사전 예방 유지 관리 모델은 최적의 장비 성능을 보장합니다. P-5000 원자로는 모든 고급 반도체 소자의 제작을위한 다용도, 신뢰할 수있는 시스템입니다.