판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9226621

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP는 반도체 장치 제조의 광석기 공정에 사용하도록 설계된 금속 패턴 원자로입니다. 원자로는 플라즈마 에치 (plasma etch) 및 증착 시스템 (deposition system) 의 최신 혁신을 활용하여 높은 종횡비 (aspect ratio) 와 균일 한 금속 구조물의 생산에 탁월한 결과를 제공합니다. 원자로는 두 가지 플라즈마 소스 유형 (ICP (inductively coupled plasma) 및 CCP (capacitively coupled plasma)) 을 선택하여 사용자가 특정 응용 프로그램에 가장 적합한 에칭 프로세스를 선택할 수 있도록 지원합니다. 또한 구조화 된 계층 하드 마스크의 에칭 패턴을 가능하게하는 티타늄 승화 소스를 사용합니다. AMAT P5000 MxP는 특허를받은 RF Matching Technology를 통해 최고의 플라즈마 프로세스 제어 및 반복 가능성을 제공합니다. 원자로에는 또한 고급 플라즈마 균일 성 (plasma unifority) 및 끝점 탐지 기능이 장착되어 있어 프로세스 창을 개선하고 정확하고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 원자로의 혁신적인 레티클 키트 (Innovative Reticle Kit) 를 사용하면 다양한 마스크 크기, 모양 및 선 너비를 사용할 수 있으며 블라인드 비아 (blind vias), 트렌치 (trench) 및 레벨링 된 피쳐와 같은 기능을 사용할 수 있습니다. 원자로의 고급 기능으로는 정확한 접촉 패턴화 및 에치 깊이 (etch depth), 자동 레티클 전송 시스템 (reticle transfer system) 및 균일 한 가스 전달을 보장하는 가스 연산 시스템 (gas coalescing system) 을 보장하는 화학 기계 연마 (CMP) 기능이 있습니다. 원자로 (Reactor) 에는 단순한 사용자 인터페이스 (user interface) 와 그래픽 색상 디스플레이 (graphical color display) 를 포함한 다른 사용자 친화적 인 기능이 장착되어 있어 사용이 쉽고 직관적이며 효율적입니다. 결론적으로, APPLIED MATERIALS P5000 MxP는 복잡한 구조물의 생산에서 레이저 날카로운 성능을 제공하도록 설계된 최첨단 생산 원자로입니다. 고급 플라즈마 소스 (Plasma Source), 프로세스 제어 (Process Control) 및 균일성 (Unifority) 기능, 사용자 친화적 (User-Friendly) 기능의 독특한 조합을 통해 디바이스 제조를 위한 다용도, 비용 효율적인 솔루션이 될 수 있습니다.