판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9226592

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor는 복잡한 고급 집적 회로 구조와 다른 나노 스케일 구조의 에칭을 위해 특별히 설계된 기술적으로 고급 멀티 챔버 도구입니다. 원자로는 이산화규소, 알루미늄, 희토류 재료, 기타 등 다양한 물질 응용 부류에서 구조를 만들 수 있습니다. AMAT P5000 MxP Reactor는 광범위한 반도체 어플리케이션을 위한 고속, 고정밀, 매우 안정적인 솔루션입니다. APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor는 복잡한 마이크로 구조의 설계 및 에칭을 완벽하게 유연화 할 수있는 고급 12 챔버 설계를 갖추고 있습니다. 다중 챔버 프로세스 (Multiple Chamber Process) 는 클라이언트 요구를 충족하는 데 있어 높은 수준의 안정성과 효율성을 제공합니다. 고급 플라즈마 보조 에칭 기술을 사용하는이 최첨단 에칭 장비는 최고의 성능, 정확성, 재생성을 제공합니다. P5000 MxP (P5000 MxP) 는 개별 애플리케이션의 특정 요구에 맞게 조정할 수 있는 다양한 매개변수를 유연하고 효율적으로 제어할 수 있습니다. 여기에는 정확하고, 정확하며, 일관된 etch 결과를 얻을 수있는 풍부한 강력한 기능이 포함됩니다. 이러한 기능에는 여러 개의 챔버 온도 설정, 조정 가능한 프로세스 지속 시간, 프로세스 및 에치 엔드 포인트 검출기, 다양한 프로세스 가스가 포함됩니다. 또한 사용자는 약실 압력 (chamber pressure), 에칭 속도 (eching), 가스 구성 (gas composition) 및 기타 설정을 응용 프로그램의 특정 요구에 맞게 조정할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor는 까다로운 에칭 및 제조 공정을 위해 매우 안정적인 공구로 설계 및 제작되었습니다. 예를 들어, 시스템은 최적의 정밀도, 프로세스 균일성 및 반복성으로 설계되었습니다. 또한, 광범위한 프로세스 제어 (process control) 기능을 통해 전반적인 에칭 정확도와 정밀도를 더욱 높일 수 있습니다. 또한, 엄격한 안전 및 유지 보수 지침은 장치가 항상 최고의 작업 상태에 있는지 확인합니다. 요약하면, AMAT P5000 MxP Reactor는 다양한 어플리케이션에 최고 수준의 정밀도 및 성능을 제공하는 고도의 에칭 머신입니다. 첨단 기술, 정밀 (precision), 프로세스 제어 (process control) 및 견고한 설계로 인해 최고 수준의 안정성과 효율성을 제공합니다. 광범위한 기능을 통해 도구는 모든 에칭 (etching) 애플리케이션의 특정 요구를 충족할 수 있으며, APPLIED MATERIALS P5000 MxP는 최고 수준의 정확성과 성능이 필요한 에칭 (etching) 어플리케이션에 이상적인 선택입니다.