판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #9127952

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor는 반도체 산업에서 사용되는 다용도 및 강력한 처리 도구입니다. 이 고급 기계는 화학 증기를 기판으로 전달하여 고급 반도체 제작 공정을 가능하게하도록 설계되었습니다. AMAT P5000 MxP Reactor에는 내장형 Active Microwire 어레이와 강력한 63MHz RF (Radio Frequency) 발전기가 탑재된 고급 강력한 플라즈마 발전기가 장착되어 있습니다. 이 조합은 다양한 기판 크기에 걸쳐 에칭 (etching) 및 증착 (deposition) 프로세스를 정확하게 제어하는 기능을 제공합니다. 증착을 위해 APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor는 고급 고밀도 플라즈마 (HDP) 기술을 사용하여 균일성, 스텝 커버리지 및 수직 프로파일이 뛰어난 단일 레이어 또는 다중 계층 필름을 증착합니다. 이 다재다능 한 원자로 는 다양 한 기판 과 필름 (필름) 재료 와 작용 하여, 광범위 한 "필름 '을 정확 하게 퇴적 시킬 수 있다. 에칭을 위해, P5000 MxP 반응기는 고유 한 자기 모드를 사용하여 에치 화학 및 에치 속도를 정밀 제어합니다. 자기 (magnetic) 모드 에칭이 향상된 수직 에치 프로파일 (vertical etch profile) 과 향상된 다이 균일성 (die unifority) 을 제공하므로 이 전원 프로세스를 통해 복잡한 외부 바이어스 시스템이 필요하지 않습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor는 프로세스 모듈에 유연성과 다용성을 제공합니다. 모듈은 에치 (etch) 및 증착 프로세스 (deposition process) 를 통해 병렬 처리를 가능하게 하여 프로세스 처리량이 향상되도록 설계되었습니다. 또한 모듈식 설계를 통해 사용자는 프로세스를 AMAT P5000 MxP (AMAT P5000 MxP) 와 결합하여 단일 플랫폼에서 혁신적인 프로세스 단계를 사용할 수 있습니다. 또한 APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor는 광범위한 기판 및 기판 재료를 사용합니다. 여기에는 직경 2 인치 ~ 8 인치의 단면 및 양면 기판이 포함됩니다. 또한, P5000 MxP 반응기는 실리카, 질화 알루미늄 및 질화 실리콘을 포함하여 다양한 기질 물질을 지원한다. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor는 반도체 제작 프로세스를 위해 강력하고 다용도 공정 도구입니다. 고밀도 플라즈마 증착 (high-density plasma deposition) 및 자기 모드 에칭 (magnetic mode etching) 과 같은 고유 한 기능은 에치 및 증착 화학을 정확하게 제어하고 광범위한 기질 및 필름 재료를 처리 할 수있는 기능을 제공합니다. 결과적으로 AMAT P5000 MxP Reactor는 오늘날의 고급 반도체 제작 프로세스에 필요한 프로세스 유연성과 처리량을 제공할 수 있습니다.