판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 MxP #186745

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP Reactor는 반도체 산업에서 사용하도록 설계된 고급 PVD (Physical Vapor Deposition) 챔버입니다. AMAT P5000 MxP는 획기적인 기술을 활용하여 탁월한 증착 성능을 제공하며, 수작업을 최소화하여 웨이퍼 처리량 및 프로세스 제어를 극대화합니다. APPLIED MATERIALS P5000 MxP (APPLIED MATERIALS P5000 MxP) 에는 강력한 단일 Showerhead 소스가 장착되어 있어 기판에 최대 6 개의 개별 소스를 동시에 전달하는 동시에 우수한 프로세스 균일성을 제공합니다. 챔버에는 개방형 로딩 챔버 (loading chamber) 설계가 있어 기판, 모양, 크기 등을 모두 수용할 수 있습니다. 또한, 챔버는 분할 레벨 리프트를 통합하여 직경이 최대 12 인치까지 기판을 쉽게 들어 올립니다. P5000 MxP의 고급 프로세스 제어 장비는 탁월한 프로세스 제어 및 균일성을 보장합니다. 멀티 포인트 플라즈마 (multi-point plasma) 제어를 통해 사용자는 최대 8 개의 가스 소스를 제어하여 정확한 플라즈마 환경을 유지할 수 있습니다. 또한 프로세스 레시피 관리를 통해 최대 100 개의 레시피 (레시피) 를 쉽게 액세스, 저장 또는 복제할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP의 모든 측면은 사용자를 염두에 두고 설계되었습니다. 예를 들어, 자동 물 플러시 (auto-water flush) 시스템은 주요 공정 챔버를 지속적으로 플러시하여 입자와 오염 물질을 수집 및 제거하여 최적의 성능 및 입자가 없는 웨이퍼를 보장합니다. AMAT P5000 MxP의 정확한 프로세스 제어는 도체 (conductor) 와 유전체 (dielectric) 의 빠른 특성화와 개선 된 수율을 위해 증착 공정의 정확한 최적화를 가능하게한다. 안전 및 프로세스 성능 향상을 위해 APPLIED MATERIALS P5000 MxP에는 고급 에지 누출 감지 장치가 통합되어 있습니다. 이 기계는 안전 마진 (safety margin) 을 증가시켜 챔버 엣지에서 플라즈마 누출을 감지하고 표시합니다. 결국, P5000 MxP는 강력하고 안정적인 설계로 뒷받침되는 성능과 프로세스 제어를 결합한 탁월한 성능을 제공합니다. 고급 Showerhead 소스와 빠른 레시피 관리를 결합하여 AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MxP는 최고 품질의 웨이퍼에 뛰어난 속도와 프로세스 균일성을 제공합니다.