판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9313058

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ID: 9313058
웨이퍼 크기: 8"
CVD System, 8" Gas panel facilities: Top feed multi-line Gas panel exhaust: Top feed Robot blade: Metal Wafer type: Notch Gas panel type: Version 4 hot box Liquid source: Hot box (3) TEOS Sources: Heated ampoule EMO's: Momentary Gas lines: (12) Lines Robot type: Standard System umbilicals: 25ft MF Facilities: Rear Mainframe: Phase II Load lock slit valves: Chemrez Heat exchanger 1: AMAT 0 VME Rack: Extended 21-slots Hard Disk Drive (HDD): 4.5 GB Chamber A: Type: CVD Universal Process A: BPSG TEOS Lid type: Single gas feed-thru Susceptor / Pedestal: TEOS Heater / Cathode cooling: AMAT 0 Process kit type: Undoped TEPO Slit valve O-ring: Chemraz Chamber O-rings: Chemraz HF Generator: OEM 12 B RF Match: Phase 4 CVD Dual manometer: Manometer 1: 10 Torr Manometer 2: 100 Torr Chamber A gasses: Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type Gas 1 / 4 Slm / N2 / UNIT 1661 Gas 2 / 2 Slm / O2 / UNIT 1661 Gas 3 / 3 Slm / C2F6 / UNIT 1661 Gas 4 / 1.5 Slm / He / UNIT 1661 Remote 1: LFC Size / Liquid name / LFC Type / Gas stick 3 Slm / TEOS / UNIT 9660 / Nupro Chamber B: Type: CVD Universal Chamber process: PRSP Lid type: Single gas feed thru Susceptor / Pedestal: TEOS Heater / Cathode cooling: Steel head 0 Slit valve O-ring: Chemraz Chamber O-rings: Chemraz HF Generator: OEM 12 B RF Match: Phase 4 CVD Process kit type undoped TEOS Dual manometer: Manometer 1: 10 Torr Manometer 2: 20 Torr Chamber B gasses: Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type Gas 1 / 5 Slm / N2 / UNIT 1661 Gas 2 / 3 Slm / O2 / UNIT 1661 Gas 3 / 2 Slm / C2F6 / UNIT 1661 Gas 4 / 1.5 Slm / He / UNIT 1661 Remote 1: LFC Size / Liquid name / LFC Type / Gas stick 3 Slm / TEOS / UNIT 9660 / Nupro Missing parts: Mini SBC board SBC Board A/I (3) DI/O Hot box components Gas box gas interface PCB Power supply: 208 VAC. 400 Amp, 50 Hz Transformer.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II는 다양한 에칭, 박막 침착 및 열 처리 프로세스에 사용되는 최첨단 기술 기반 처리 원자로입니다. 챔버 부피 용량은 최대 5 리터, 최대 작동 온도는 섭씨 950 도입니다. AMAT P5000 Mark II는 견고한 스테인리스 스틸 (stainless steel) 아키텍처로 구성되어 있으며 장기 열 전달 효율을 향상시키는 평면 상단이있는 에르메틱 한 디자인을 갖추고 있습니다. 또한 온도제어 (temperature control), 부품 저장 (part storage) 및 대용량 생산을 지원하는 자동 클리닝 기능도 내장되어 있습니다. 또한 프로그래밍 가능한 사이클 제어 (cycle control) 기능을 통해 연산자는 매개 변수를 쉽게 변경하여 프로세스 조건을 최적화하여 효율성을 극대화할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II는 다양한 유형의 액체, 가스 및 고체를 다양한 공정에 수용하도록 사용자 정의 할 수 있습니다. 화학 증기 증착 (CVD), 물리적 증기 증착 (PVD), 사진 등급 화학 에칭 및 방향 에칭 및 열 처리에 사용할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS P5000 Mark II의 온도는 실온에서 섭씨 950도 (섭씨 950도) 까지 10도 간격으로 조정하여 배치 간 프로세스 일관성을 허용합니다. 가스축적 (gas buildup) 이나 누출 (leaks) 과 같은 위험한 사건을 방지하기 위해 안전장치 (safety device) 를 내장했다. 또한, P 5000 MARK II는 제품의 성능을 극대화하고 시스템의 신뢰성을 높이기 위해 AMAT 독점 처리 가스와 결합 될 수 있습니다. 이 원자로는 직관적 인 터치 스크린 인터페이스 (touchscreen interface) 를 갖추고 있어 운영자가 컨트롤에 빠르고 쉽게 액세스 할 수 있습니다. 추가 안전 및 프로세스 제어를 위해, P5000 Mark II는 운영 매개변수를 추적하고, 원격 진단을 가능하게 하며, 매개변수가 사전 설정된 제한 이외에 있을 때 경보를 보내는, 데이터 로깅 기능이 내장되어 있습니다. 고급 기능을 갖춘 AMAT P 5000 MARK II는 항공 우주, 자동차, 의료 기기 및 고급 산업 응용 분야에 적합한 선택입니다.
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