판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9213665

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II는 업계 최고의 성능과 유연성을 제공하도록 설계된 매우 고급적이고 신뢰할 수있는 CVD (chemical vapor deposition) 원자로입니다. 이 최첨단 CVD 원자로에는 시장을 선도하는 소스 챔버 (source chamber) 와 높은 정확도의 프로세스 챔버 (process chamber) 가 장착되어 있어 고급 재료 개발 및 응용 분야에 이상적인 선택입니다. AMAT P5000 Mark II의 소스 챔버 (source chamber) 는 일관되고 고품질의 입자 형성을 제공하기 위해 특별히 설계되었으며, 생성 된 입자의 크기와 모양이 균일합니다. 소스 챔버 (Source Chamber) 는 운영 효율성과 향상된 수율을 생성하도록 설계된 4 구역 난방 사이클을 사용합니다. 또한, 소스 챔버 (Source Chamber) 에는 재료 생성 시 정밀도 및 제어를 위해 반응성 가스 (Reactive Gase) 를 도입 할 때 유연성을 제공하는 2 개의 가스 진입점이 있습니다. 고정밀도 공정 챔버는 APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II의 핵심 기능입니다. 이 특수 챔버는 레이어 증착을위한 최적의 환경을 제공하며 사용자에게 전례없는 제어 및 정확성을 제공합니다. 이를 통해 매우 정밀한 재료 증착, 레이어 제어, 고급 필름 관리 등 다양한 기능을 사용할 수 있습니다. AMAT P 5000 MARK II의 고급 제어 및 프로그래밍은 프로세스 제어를 완료하고 프로세스 조건 및 매개변수에 대한 피드백을 제공합니다. 정교한 소프트웨어와 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 매개변수를 사용자 정의하고, 프로세스를 모니터링하고, 결과를 분석할 수 있습니다. 따라서 사용자는 배치 프로세스를 최적화하고 일관된 결과를 얻을 수 있습니다. P5000 Mark II의 다른 유용한 기능으로는 TCO 절감, 일관성 향상 등이 있습니다. 챔버 (Chamber) 재료는 사이클링 시간과 에너지 비용을 줄이기 위해 특별히 제작되었으며 챔버 (Chamber) 디자인은 쉽게 액세스 할 수 있습니다. 내장형 제어/프로그래밍을 통해 프로세스 제어를 자동화할 수 있으므로, 사용자는 보다 복잡한 프로세스를 손쉽게 관리할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II는 시장을 선도하는 소스 챔버와 인상적인 정확도가 높은 공정 챔버를 갖춘 고급적이고 신뢰할 수있는 CVD 원자로입니다. 이러한 기능을 통해 고급 재료와 응용 프로그램을 만드는 데 이상적인 선택이 됩니다. 정교한 소프트웨어와 직관적인 사용자 인터페이스를 통해 결과의 사용자 정의, 모니터링, 분석, 일관성 있는 성능 보장, 프로세스 효율성 극대화 등의 이점을 누릴 수 있습니다.