판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #293596177

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II 원자로는 단일 챔버에 여러 소스와 공정을 갖는 생산 등급 화학 증기 증착 (CVD) 플랫폼입니다. 고급 재료의 힘을 활용하는 데 이상적인 AMAT P5000 마크 II (Mark II) 원자로는 다양한 산업 관련 재료를 수용하는 높은 증착율, 제어 된 균일성, 부드러운 공정 램프 업을 제공합니다. 장비는 광범위한 재료 시스템을 처리 할 수 있으며, 나노 미터 스케일에서도 매끄럽고 균일 한 층 (layer) 을 생성하는 것으로 입증되었습니다. APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II 시스템은 프로세스 엔지니어링 및 고급 응용 프로그램을 위해 설계되었습니다. 주력 기능에는 대형 4 인치 정사각형 챔버, 중주파 ECR 플라즈마, 유전체 장벽 방전 플라즈마 및 대용량 가스 패널이 모두 하나의 장치에 포함되어 있어 뛰어난 균일성과 일관성이 있습니다. 이 기계는 또한 여러 층의 전도성 (Conductive) 및 절연 필름을 포함하여 고품질 필름을 생산할 때 빠른 프로세스 증가, 오염 제어, 효율성을 제공합니다. 이 모델은 탁월한 균일성, 빠른 프로세스 증폭, 탁월한 오염 제어 기능을 제공하여 복잡한 증착 단계, 향상된 필름 품질을 제공합니다. AMAT P 5000 MARK II 도구 (예: 화학 증기 증착, 원자층 증착 등) 에서 다양한 프로세스를 사용할 수 있습니다. 이 자산은 또한 뛰어난 퍼지 관리, 이중 소스 제어, 시퀀스 제어 기능이있는 통합 가스 전달 모델을 포함합니다. 이 장비에는 통합 메가헤르츠 (Megahertz) 속도 인터페이스와 디지털 쿼드런트 디스플레이 (Digital Quadrant Display) 가 장착되어 있어 프로세스 제어, 프로세스 윈도우 및 레벨 설정에 도움이 됩니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II 원자로는 연구 및 개발에 이상적인 도구이며, 고급 및 복합 필름 제작에 비용 효율성에 필요한 정밀성과 민첩성을 제공합니다. 넓은 영역에 비해 높은 처리량 (throughput) 과 탁월한 균일성 (unifority) 을 제공하여 사용자가 균일성, 두께, 구조를 무한히 제어할 수 있는 여러 레이어의 필름을 만들 수 있습니다. 이 시스템은 광범위한 nanofabrication 및 material innovations의 요구 사항을 충족하여 연구원들이 반도체, 하드 디스크, 광 스토리지 장치를위한 새로운 애플리케이션을 개발할 수 있습니다.