판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD #9161551

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD Reactor는 다양한 응용 분야를 위해 설계된 직관적이고 다양한 밀집로입니다. P5000 Mark II는 프로세스 최적화를 위해 여러 공정 챔버가 장착 된 화학 증기 증착 (CVD) 시스템입니다. AMAT P5000 Mark II CVD에는 효율적이고 정확한 증착을 위해 정밀하게 설계된 풍부한 기능이 있습니다. 다중 챔버 디자인은 확산 제어를 위해 배리어 필름 (barrier film), 하드 코팅 (hard coating) 및 유전체 필름 (dielectric film) 과 같은 응용 프로그램의 프로세스 매개변수를 최적화하는 데 사용될 수 있습니다. 멀티 챔버 (multi-chamber) 설계는 각 챔버마다 서로 다른 온도 체계를 가능하게하여 여러 응용 프로그램과 증착을 동시에 처리 할 수 있습니다. 또한, APPLIED MATERIALS P5000 MARK-II CVD는 배치/제작하려는 재료 특성에 따라 프로세스 변형을 조정할 수 있으므로 프로세스 제어가 향상되었습니다. P5000 MARK-II CVD는 향상된 성능 외에도 안전을 보장합니다. 공정 챔버 대기 (process chamber atmospheres) 를 유지하기 위해 고해상도 온도 센서와 가열 거리 제어 (heated distance control) 를 장착하여 작동기 안전을 보호하고 최적의 온도 제어를 제공합니다. P5000 Mark II CVD의 다른 기능으로는 배기 연결 (exhaust connection) 및 폐쇄 루프 시스템 (closed loop system) 이 있습니다. 이것은 유기 폐수가 주변 환경으로 탈출하지 않음을 보장하는 데 도움이됩니다. 또한 APPLIED MATERIALS P5000 Mark II CVD에는 최적의 성능 및 프로세스 제어를 위해 조절 가능한 난방 요소도 있습니다. 그것의 구조는 엑소 쉘 플래튼 (exo-shell platen) 을 특징으로하며, 프로세스 챔버 전체에 균일 한 온도 분배를 제공하여 성능 향상과 더 긴 생산 실행을 가능하게합니다. 요약하자면, AMAT P5000 MARK-II CVD Reactor는 배리어 필름, 하드 코팅, 유전체 필름과 같은 섬세한 증착 및 공정을 위해 설계된 직관적이고 효과적인 시스템입니다. 다기능 처리 (multi-application processing) 를 위한 다양한 공정 챔버 (process chamber) 와 성능 최적화를 위한 조절 가능한 난방 요소 등 다양한 기능을 갖추고 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 MARK-II CVD는 또한 온도 센서 및 폐쇄 루프 시스템 (closed loop system) 을 사용하여 유기 폐수가 환경 진입을 줄입니다. 엑소 쉘 플래튼 (exo-shell platen) 을 사용한 구성은 안정적인 프로세스 결과와 효율적인 운영 실행을 보장하여 CVD 애플리케이션을 위한 최고의 선택입니다.