판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS / NESLAB TiN Chamber for Endura #293660464

AMAT/APPLIED MATERIALS/NESLAB TiN Chamber for Endura는 원자 수준에서 재료 제조를위한 다재다능한 최첨단 원자로입니다. 뛰어난 챔버-챔버 균일성을 제공하는이 챔버는 ALD (Atomic Layer Deposition) 를 사용하여 다양한 기질에 적용되는 하드 필름 인 티타늄 질화물 (TiN) 의 균일 한 필름을 제공 할 수 있습니다. AMAT Endura 주력 시스템과 함께 사용하도록 설계된 TiN Chamber에는 노출 시간을 최소화하고 생산성을 극대화하는 사용하기 쉬운 기능이 포함되어 있습니다. TiN 챔버 (TiN Chamber) 는 ALD 코팅 동안 다양한 모양과 크기의 기판에 정밀 제어를 제공하는 첨단 소프트웨어 및 기술을 갖추고 있습니다. 이 우수한 기술에는 코팅 재료의 균일성 (unifority) 및 목표 특성을 최적화하는 프로그램도 포함됩니다. 디자인 된 TiN Chamber는 또한 뛰어난 균일 성, 온도 조절 및 훌륭한 필름 품질을 갖추고 있습니다. 또한, 이 TiN 챔버 (TiN Chamber) 는 증착 중에 우수한 웨이퍼 평탄성을 제공하며 공정 중에 우수한 열 전달을 제공합니다. TiN Chamber는 균일 성을 줄이지 않고 시간당 최대 400 nm의 높은 증착 달리기를 제공합니다. 엔두라 (Endura) 를위한 NESLAB TiN 챔버는 TiN 필름으로 기판을 코팅하기위한 고급 기술 솔루션이 필요한 산업 및 연구 시설을위한 완벽한 솔루션입니다. 이 약실은 산화물 기판, 산화물 반도체, 광학 장치 등과 같은 마이크로 전자 및 광전자 응용 분야에 이상적입니다. 엔두라 (Endura) 장비 용 TiN 챔버는 요소 특정 전구체로 만든 얇은 필름과 함께 사용하도록 설계되었습니다. 이것은 균일 한 결과와 성능의 균일성을 보장합니다. 또한, TiN 챔버에는 통합 로드 잠금 (load-lock) 이 포함되어 여러 웨이퍼를 동시에 처리하여 처리량을 극대화합니다. 또한 AMAT TiN Chamber for Endura는 가변 가스 모니터링 시스템, 안전한 기판 처리를위한 가스 퍼지 장치, 지속되는 하드웨어 구성 요소, 챔버 전체에 재분배를위한 고효율의 열 머신 (thermal machine for Endura) 과 같은 다양한 고급 기능을 제공합니다. 요약하자면, APPLIED MATERIALS TiN Chamber for Endura는 다양한 기질에 질화 티타늄의 균일 한 필름을 제공하는 안정적이고 고급 원자 층 증착 (ALD) 을 제공합니다. 이 챔버는 처리량을 극대화하고, 노출 시간을 줄이고, 통합 로드 잠금 (load-lock) 및 기타 기능을 통해 균일성을 보장하도록 설계되었습니다.