판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS HTHU #185712

AMAT/APPLIED MATERIALS HTHU (High Temperature/High Flux Ultra High Vacuum Reactor) 는 고급 연구 응용 프로그램을 위해 개발 된 초고속 진공 증착 장비입니다. 온도가 1450 ° C 이상인 기판에 얇은 층의 물질을 증착 할 수있는 고급 초고 진공 증착 시스템 (advanced ultra-high vacuum deposition systems) 을 사용합니다. 이것은 III-V 화합물 반도체, 그래 핀 및 붕소 질화물 성장과 같은 응용 분야에 이상적입니다. AMAT HTHU는 원자로 챔버와 증발 소스의 두 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 원자로 챔버는 스테인리스 스틸 (stainless steel) 로 만들어졌으며 1E-6 torr (정상 대기압보다 낮음) 의 진공을 유지하도록 설계되었습니다. 원자로 챔버 내부에는 증발 원 (evaporation source) 이 있는데, 이는 물질 샘플을 기판으로 스퍼터링 또는 증발시키는 데 사용됩니다. "이온 '총 도 증발" 소오스' 에 포함 되는데, 이것 은 기판 의 표면 에 있는 물질 을 에치, 청소, 수정 하는 데 사용 된다. 증발 원은 재료 증발에 RF (무선 주파수) 전원을 사용하며, 이는 전자 빔과 CVD (화학 증착) 사이에서 전환 될 수 있습니다. 이를 통해 강착 중 기판 온도, 플럭스 (flux) 및 압력 (pressure) 을 제어하여 재료 두께와 형태를 제어 할 수 있습니다. 또한, 광범위한 매개 변수 제어를 통해 증착 과정 최적화, 확산 속도 증가, 필름 균질성 향상, 필름 접착 개선 등이 가능합니다. 증착 과정 동안 정확성과 정확성을 보장하기 위해 단위 MFC (질량 흐름 컨트롤러) (mass flow controller) 는 압력을 조정하는 데 사용되며, 이는 원자로 내에서 혼합물 가스의 잘 제어 된 흐름을 허용합니다. 온도 조절 (temperature control) 과 압력 제어 (pressure control) 의 조합과 고온 기능으로 매우 안정적인 결과를 얻을 수 있습니다. 또한, 응용 재료 HTHU (APPLIED MATERIALS HTHU) 에는 원자로 챔버에 적재되기 전에 기판을 효율적으로 준비하기 위해 적재 장치 (loadlock facility) 가 장착되어 있습니다. 이 기능을 사용하면 기판을 빠르게 순환하여 전체 기계 처리량을 증가시킬 수 있습니다. 결론적으로, HTHU 고온/고 플럭스 초고진공 원자로는 연구 응용을위한 고급 증착 도구입니다. 고급 RF 증발, 이온 에칭, 매우 정확한 온도, 압력, 플럭스 제어 기능을 갖추고 있어 예금 공정을 완벽하게 제어할 수 있습니다. 적재물 (loadlock) 기능을 통해 기판을 효율적으로 주기할 수 있으므로 효율성이 높고 안정적입니다.