판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS EP 17700 #293750157

AMAT/APPLIED MATERIALS EP 17700은 반도체 장비의 주요 공급 업체 인 AMAT가 설계 및 제조 한 고성능 CVD (chemical vapor deposition) 원자로 장비입니다. 이 고급 증착 장치 (Advanced Deposition System) 는 반도체 웨이퍼에 박막 (Thin Film) 을 제작하여 집적 회로 (Integrated Circuit) 및 메모리 칩 (Memory Chip) 과 같은 고급 전자 장치의 생산을 가능하게 하는 데 사용됩니다. AMAT EP 17700 원자로는 반도체 제조에서 필름 품질, 공정 제어, 생산성을 향상시키는 다양한 최첨단 기능과 기술을 제공합니다. 코어에서, 장치에는 여러 공정 챔버 (process chamber) 가 장착되어 있어 웨이퍼의 병렬 처리가 가능하며, 처리량 및 효율성이 향상됩니다. 이러한 챔버의 통합은 대량의 생산을 가능하게하지만, 증착 과정에 대한 정확한 제어를 유지합니다. APPLIED MATERIALS EP 17700 원자로의 주요 하이라이트 중 하나는 고급 가스 전달 기계 (Advanced Gas Delivery Machine) 로, 기판에서 얇고 신뢰할 수있는 박막 증착을 보장합니다. 이 공구에는 정밀 질량 흐름 제어기 (precision mass flow controller) 가 장착되어 있어, 높은 정확도로 가스가 공정 챔버 (process chamber) 로의 흐름을 조절하고, 균일성과 두께 제어가 뛰어난 필름을 증착할 수 있습니다. 또한, 원자로 는 "웨이퍼 '표면 을 가로지르는" 가스' 흐름 패턴 을 최적화 하여, 필름 의 질 과 재현성 이 뛰어난 정교 한 "가스 '분배 자산 을 갖추고 있다. EP 17700 원자로는 또한 증착에 필요한 정확한 온도에서 공정 챔버를 유지하는 최첨단 난방 (state-of-the-art heating) 및 온도 조절 모델로 설계되었습니다. 이 정밀한 온도 조절 (temperate control) 은 원하는 필름 특성을 달성하고 반도체 장치의 안정성과 성능을 보장하는 데 필수적입니다. 이 장비는 혁신적인 가열 요소와 온도 센서를 통합하여 가열 및 냉각 주기 (rapid heating and cooling cycle) 를 높이고 프로세스 시간을 줄이고 전반적인 생산성을 향상시킵니다. 탁월한 공정 제어 기능 외에도 AMAT/APPLIED MATERIALS EP 17700 원자로는 향상된 필름 증착을위한 고급 플라즈마 개선 기술을 제공합니다. 이 시스템에는 공정 챔버에서 플라즈마 환경을 생성하는 RF 플라즈마 소스 (RF Plasma Source) 가 장착되어 화학적 반응을 높이고 더 낮은 온도에서 고품질 필름의 강착을 촉진합니다. 이러 한 "플라즈마 '의 향상 기술 은" 실리콘' 질화물, 이산화실리콘 '및 "폴리실리콘' 을 포함 하여 여러 가지 물질 을 증착 시킬 수 있게 해 준다. 또한, AMAT EP 17700 원자로는 사용자 친화적 인 인터페이스와 고급 소프트웨어 제어 장치 (Software Control Unit) 로 설계되어 운영자가 쉽게 증착 과정을 프로그래밍하고 모니터링할 수 있습니다. 이 기계는 직관적인 그래픽 사용자 인터페이스를 통해 가스 흐름 속도 (gas flow rate), 온도, 압력, 증착률 (deposition rate) 과 같은 주요 프로세스 매개변수에 대한 실시간 모니터링을 제공합니다. 이 고급 소프트웨어 제어 도구를 사용하면 프로세스 최적화 및 문제 해결을 정확하게 수행할 수 있으며, 일관되고 안정적인 필름 증착 (film deposition) 을 보장합니다. 결론적으로 APPLIED MATERIALS EP 17700 원자로는 최첨단 CVD 자산으로, 박막 증착을위한 효율적이고 안정적인 솔루션을 반도체 제조업체에 제공합니다. EP 17700 원자로는 고급 기능, 탁월한 공정 제어 기능, 플라즈마 향상 기술 등을 통해 고급 반도체 장치 제작을 위한 탁월한 성능과 유연성을 제공합니다 (영문).