판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9266968

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor는 반도체 기반 회로 보드의 제작에 사용되는 대형 진공 처리 장치입니다. 구체적으로, AMAT ENDURA 원자로는 CVD (Chemical Vapor Deposition) 프로세스에 사용되며, 이는 현대 반도체 구성 요소 생산의 핵심 단계입니다. APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor는 진공실, 공정 입구 및 콘센트, 가스 배달 장비 및 제어 시스템의 4 가지 주요 구성 요소로 구성됩니다. 진공실 (vacuum chamber) 은 방의 최대 청결 및 진공 수준을 유지하도록 설계된 은밀하게 밀봉 된 용기입니다. 공정 입구 (process inlet) 와 콘센트 (outlet) 는 주변 환경에서 챔버로 액세스하여 공정 주기가 완료되면 가스가 들어가고 제품이 제거되도록 합니다. 가스 전달 장치 (gas delivery unit) 는 특정 비활성 및 반응 가스를 원자로 챔버에 주입하는 데 사용되며, 이어서 CVD 공정에서 기질 물질과 상호 작용한다. 마지막으로, 제어기 (Control Machine) 를 통해 운영자는 챔버 (Chamber), 가스 전달 (Gas Delivery) 및 프로세스 매개변수의 설정을 정확하게 모니터링하고 제어하여 일관성 있고 고품질 제품을 보장할 수 있습니다. 엔두라 원자로 (ENDURA Reactor) 의 특징은 고급 반도체 부품 제작에 이상적인 선택이다. 최대 1000 ° C의 온도에 도달 할 수 있으며, 원자 수준에서 기질과 반응 가스의 상호 작용을 통해 고 K 유전체 (high-K dielectric) 및 기타 복잡한 물질과 같은 복잡한 구조를 형성 할 수있다. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA는 또한 높은 처리량에 최적화되어 CVD 생산에서 웨이퍼/기판을 신속하게 처리 할 수 있습니다. 원자로 환경 (reactor environment) 과 공정 매개변수 (process parameter) 의 정확한 제어는 정확하고 반복 가능한 결과를 제공하는 반면, 통합 안전 시스템은 항상 운영자의 안전을 보장합니다. 전반적으로 AMAT ENDURA Reactor는 반도체 장치를 제조하는 CVD 프로세스를 위해 설계된 고급 진공 처리 도구입니다. 즉, 정확한 제어 기능과 강력한 기능을 통해 정확하고 반복적으로 사용할 수 있어 고급 (Advanced) 구성 프로세스를 위한 동급 최고 수준의 선택이 가능합니다.