판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9174930

AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA는 반도체 및 기타 첨단 기술 제조 공정에서 더 빠르고, 정확하고, 더 일관된 플라즈마 에칭을 가능하게하도록 설계된 혁신적인 플라즈마 에치 원자로입니다. 이 새로운 에치 (etch) 원자로에는 처리량을 향상시키고 수율을 증가시키는 고유하고 강력한 기능과 기능이 결합되어 있습니다. 원자로는 단일 챔버 (single-chamber) 설계로 제작되어 동일한 장비로 다양한 프로세스를 수행 할 수 있도록 설계되었으며, 정책 실리콘, 폴리 이마이드, 폴리 실리케이트, 폴리 옥시드, 질화물 등 다양한 재료의 고품질 에칭을 가능하게합니다. 이 시스템은 매우 효율적이고 신뢰성이 높으며, 고급 (Advanced) 기능으로, 탁월한 성능을 제공하며, 유지 관리 요구 사항을 줄여줍니다. 즉, 독립적인 밸브 포라인 (foreline) 을 통합하여 일관성 있고 반복 가능한 press-sure 를 유지하고 프로세스 매개변수를 보다 효율적으로 제어할 수 있습니다. 또한 AMAT ENDURA Plasma Etch Reactor는 가스 화학, RF 전력, 압력 및 배치 크기와 같은 다양한 화학 및 공정 변형에서 잘 작동합니다. APPLIED MATERIALS ENDURA에는 기존 AED (Automatic Endpoint Detection) 장치의 향상된 버전이 포함되어 있으며, 고객이 지속적으로 및 보다 정확한 에칭 프로세스를 모니터링하고 제어 할 수 있도록 설계되었습니다. AED는 프로세스 끝점을 실시간으로 고유하게 식별하고 분류할 수 있는 피쳐 인식 알고리즘을 사용합니다. 이는 복잡성이 줄어들고, 다운 스트림 오염의 위험이 줄어드는 최고의 에치 속도를 보장합니다. 또한 사용자는 원격 플라즈마 소스 종료 (Remote Plasma Source Shut Down), 장애 조건에 대한 자동 레시피 전환 (Automatic Recipe Switching), 프로세스 모니터링 옵션 등 여러 가지 유용한 프로세스 보호 기능을 제공합니다. 이러한 안전 (Safety) 기능을 함께 사용하면 툴에서 자산에 이르기까지 뛰어난 제품 품질과 일관된 성능을 보장할 수 있습니다. ENDURA Plasma Etch Reactor는 반도체 제조의 고급 프로세스를 위한 완벽하고 강력한 솔루션으로, 고품질 에칭 결과, 수율 증가 및 효율성 향상을 제공합니다. 이 모델의 기능과 기능은 모든 에칭 (etching) 애플리케이션에 이상적인 선택이며, 안정적이고 반복 가능한 성능, 위험 감소, 높은 수준의 프로세스 제어 (process control) 기능을 제공합니다.