판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #9109593
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판매
ID: 9109593
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2002
PVD system, 12"
Chamber 1:
For Al-Cu PVD chamber
DCPS;Master, OPTIMA DCG-200, ENI, for PVD
Slave, OPTIMA DCG-200, ENI, for PVD
PUMP/CRYO, SICERA KZ-8L3C, SHI
HT ESC type stage
Ar;200/20sccm
Chamber 2:
Chamber ONLY For PVD
Not used
Chamber 3:
For TiN PVD chamber
DCPS;OPTIMA DCG-200, ENI, for PVD
PUMP/CRYO, SICERA KZ-8L3C, SHI
A101 type stage
Ar/N2;150/200sccm
Chamber D:
For Pre-CLN chamber, PCXT
RFPS;GHW-12A/GMW-25A, ENI, for BIAS/SLA
PUMP/CRYO, SICERA KZ-8L3C, SHI
Ar;200/20sccm
Chamber E,F:
For Degas, Plate heater
PUMP/CRYO, SICERA KZ-8L3C, SHI
Ar, press. Controlled
Missing Parts
Currently de-installed
2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS는 AMAT Inc.에서 제조 한 단일 분말 가공 장비입니다. 이 원자로는 화학 증기 증착 (CVD) 을 사용하여 AFEM (alternating field emitter), FET (field effect transistor) 및 금속화와 같은 응용 분야에 이상적인 실리콘 필름 층을 증착시킵니다. 이를 통해 반도체 구조를 기판 재료에 효율적으로 구축 할 수 있습니다. AMAT ENDURA는 다중 레벨 분산 쇼 어헤드 (distributed showerhead) 전달 시스템을 사용하여 입자 오염이 매우 낮은 균일 한 처리를 허용합니다. 이 장치는 세 가지 주요 구성 요소 (주 챔버, 뜨거운 벽 및 차가운 벽) 로 구성됩니다. 주 "가스 '는 반응성" 가스' 를 원자로 전체 부피 에 분산시키는 역할 을 한다. 그런 다음 CVD 가스는 균일 한 쇼어 헤드 (showerhead) 를 통해 확산되어 균일 한 증착과 높은 공정 반복 성을 만듭니다. 온벽은 원하는 필름의 증기 성장에 필요한 기판 온도를 생성 할 책임이 있습니다. 이것은 흑연 방사선 원 (graphite radiation source) 의 도움을 받아 처리 가스를 열 분해로부터 보호함으로써 수행됩니다. "콜드 월 '을 사용 할 때 는, 높은 증착 속도 를 달성 하기 위하여 원하는 온도 분포 를 유지 하는 데 도움 이 된다. 또한 APPLIED MATERIALS ENDURA는 완전한 컨트롤러 기반 기능을 제공하여 증착 과정에서 정밀성과 일관성을 보장합니다. 여기에는 원하는 원자로 압력, 온도, 성장률을 설정하고 유지하는 기능이 포함됩니다. 엔두라 (ENDURA) 는 균일 한 표면 특성을 가진 필름을 생산할 수있는 다재다능하고 신뢰할 수있는 기계입니다. 공정 변동 (process variation) 이 적은 고품질 필름을 배치하는 능력은 높은 균일성 (unifority) 과 높은 처리량 (throughput capacity) 이 필요한 응용 프로그램을위한 귀중한 도구였습니다. 따라서, 박막 트랜지스터, 디스플레이, 평면 패널 장치를 포함한 많은 고급 전자 및 MEMS 응용 프로그램에 이상적인 선택이되었습니다.
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