판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS ENDURA #177672

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ID: 177672
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1995
Sputtering system, 6" 1. ALCu(Clamp) 2. Wide-Ti(A101) 3. Wide-Ti(A101) 4. STD-AL-Si-Cu(Clamp) 5. - A. Pass B. Cool C. PC2 D. PC2 E. ORIENTER-DEGAS F. ORIENTER-DEGAS BUFFER: HP XFER: HP LL: NARROW MAGNET: DURA & G12 Pumps: EBARA AA40WN, AA40W, AA70W Missing: SBC FDD 24V Power supply Currently installed and shut down 1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA Reactor는 반도체 산업의 재료 증착 공정을 위해 설계된 고품질 화학 증기 증착 (CVD) 장비입니다. 이 원자로는 비용 효율적인 패키지에서 탁월한 성능과 탁월한 엔지니어링 지원을 제공합니다. AMAT ENDURA는 진공 처리 환경을 정확하게 제어하고 프로세스, 재료, 증착률을 최적의 방식으로 선택할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS ENDURA는 멀티 오리피스 이퓨저 (multi-orifice effuser), 정밀 압력 조절 밸브 (pressure control valv) 를 갖춘 가스 전달 시스템, 균일 한 가스 분배를 얻기 위해 균일 한 가스 분배판을 사용합니다. 또한 균일 한 증착 결과를 얻기 위해 멀티 오리피스 이퓨저, 다이버터 플레이트, 밸브 제어 난방 소스 및 고유 한 트리플 소스 디스펜서 유닛을 자랑합니다. 엔두라 (ENDURA) 는 열 (thermal) 과 플라즈마 (plasma) 강화 CVD 프로세스를 모두 실행할 수 있으며, 다양한 재료를 수용할 수있는 능력은 다양한 응용 분야에 이상적입니다. 각 프로세스는 증착률, 균일성 및 선택성을 최적화하기 위해 맞춤 조정할 수 있습니다. 또한 프로세스 창 (large process window) 과 프로세스 매개변수의 정확한 제어 (control of process parameters) 를 통해 특정 프로세스 설계를 정확하게 적용할 수 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS ENDURA CVD 원자로는 대형 115mm x 265mm 기판 용량에 걸쳐 우수한 열 안정성 및 열 균일 성을 제공합니다. 또한 고급 흐름 제어 (flow control) 를 사용하여 수율 개선을 위해 가장 균일 한 흐름 패턴과 균일 한 증착을 달성합니다. 이 기계의 지능형 제어 (Intelligent Control) 기능을 통해 사용자는 프로세스 유체와 온도를 정확하고 빠르게 조정할 수 있으며, 자동화된 프로세스 제어 (Automated Process Control) 기능을 통해 사용자의 개입을 최소화하고 시간을 절약할 수 있습니다. AMAT ENDURA CVD Reactor는 사용량이 쉽고, 안전하며, 신뢰할 수 있도록 설계되었습니다. 직관적인 10 인치 터치 스크린 디스플레이와 고급 GUI (Graphic User Interface) 를 통해 사용자는 필요에 따라 프로세스 설정을 신속하게 검증하고 매개변수를 신속하게 조정할 수 있습니다. 또한 오류 발생 시 자동 차단 (automatic shoff) 과 같은 고급 안전 (advanced safety) 기능이 제공되며, 오류 발생 시 명확하고 정확한 피드백을 제공하기 위해 알람 표시기가 내장되어 있습니다. 결론적으로, APPLIED MATERIALS ENDURA CVD Reactor는 반도체 산업의 모든 재료 증착 프로세스 임무에 이상적인 솔루션입니다. 탁월한 성능, 탁월한 엔지니어링 지원, 신뢰할 수 있는 안전 기능을 경제적인 패키지로 제공합니다. 프로세스 환경과 자동화 (automation) 기능을 정확하게 제어함으로써, 엔두라 (ENDURA) 는 모든 증설 프로세스 요구에 대해 효율적이고 비용 효율적인 자산을 제공합니다.
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