판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9358610

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II는 저압 화학 증기 증착 (LPCVD) 공정을 위해 설계된 생산 지원 원자로입니다. 고정밀, 저인덕턴스 필라멘트 전원 공급 장치, 자동 서셉터 높이 조정, 저소음 베어링 어셈블리, 특허 공정 챔버 아키텍처, 고증착 균일성 등이 장착되어 있습니다. AKT Endura II는 가스 흐름 균일성을 극대화하고 열 균일성, 공정 반복성, 프로세스 안정성을 향상시키기 위해 최적화된 프로세스 형태를 가진 특허 챔버 아키텍처를 사용합니다. 저인덕턴스 전원 공급 장치 (Low Inductance Power Supply) 는 전기 소음을 줄이기 위해 설계되었습니다. 이 소음은 공정의 잠재적 오염을 최소화하고 수율을 높이고 품질을 향상시킵니다. 자동 서셉터 높이 조정은 정확하고 반복 가능한 웨이퍼 위치를 지정하여 필름 두께의 로트 투 로트 (lot-to-lot) 변화를 줄입니다. 저소음 베어링 어셈블리는 일관된 환경을 유지하고, 반복 가능한 프로세스를 제공하고, 프로세스 품질을 향상시킵니다. AMAT Endura II는 쿼츠 저항 이륙 지점, HCl 제어 밸브 및 최대 3 개의 회전 가스 밸브와 같은 기능을 갖춘 고도로 적응 가능한 시스템입니다. 온도와 압력의 광범위한 작동 창이 있으며 표준 이중 RF 전원 (dual RF Power) 기능이 포함되어 있습니다. 강력한 EasyCenturion 소프트웨어는 시스템 간에 신속하게 전송되고, 원격 프로세스 모니터링 및 프로세스 제어를 가능하게 하는 자동화된 프로세스 레시피 (automated process recipe) 를 제공합니다. Endura II의 전반적인 성능과 신뢰성은 LPCVD 프로세스에 매우 적합합니다. 실리콘 질화물 (silicon nitride) 또는 폴리 실리콘 (polysilicon) 의 증착과 같이 높은 반복성과 균일성이 필요한 생산 프로세스에 이상적인 도구입니다. 강력한 EasyCenturion 소프트웨어는 또한 연구 기반 응용 프로그램을위한 훌륭한 선택으로 새로운 프로세스의 신속한 프로토 타입 (prototyping) 과 다른 원자로 간의 빠른 전송을 가능하게합니다.