판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9198255
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판매
ID: 9198255
빈티지: 2009
PVD System
Process:
W(DC)
TiN(DC)
Si(RF)
Configuration:
Process tool:
FI
(3) Load ports
Endura main frame
Load lock A/B(LLA/LLB)
Degas chamber(CHE)
Versa Ti/TiN chamber (CH1)
Versa W/WN chamber (CH2)
RF PVD Si chamber (CH4)
Sub tools:
Primary AC box / Rack
Power rack:
Power supply
(3) Controllers
(2) Cryo compressors
Cooling chiller (Heat exchanger)
Dry pump (EBARA, 80WN x2, 20N x1)
Sub tools:
Qty / Make / Model / Part number / Description / CH
(6) / BROOKS / CTI-CRYOGENICS / IS 8F / / Cryopump / Buf/Tr/E/1/2/4
(2) / BROOKS / CTI-CRYOGENICS / IS-1000 / 0190-19395 / Cryocompressor / -
(2) / EBARA / ESR 80WN / / Drypump / System/LL
(1) / EBARA / ESR 20N / / Drypump / CHE
(1) / DAIKIN / - / 0190-25358 (Rev02) / Chiller / -
(1) / ADVANCED ENERGY / Pinnacle / 0190-34646W / Power supply 20kW DC / CH1
(1) / OPTIMA / MKS DCG-200Z / 0190-26736101 / Power supply 10kW DC / CH2
(1) / ENI / GHW-12Z / 0190-25529W / Power supply / CH2
(1) / OPTIMA / MKS DCG-200Z / 0190-32405 / Power supply 5kW DC / CH4
(1) / COMDEL / CB3500 / 0190-38882 / Power supply 3500W RF / CH4
(1) / ASSEMBLY / HY-11 / 0010-25739 / Magnet 300MM DS-TTN / CH1
(1) / - / - / 0010-46871 / Magnet assy, 50M,LRW,300MM PVD / CH2
(1) / ASSEMBLY / Magnet / 0010-48649 / Magnet, 300MM, RF PVD / CH4
Parts list:
Chamber-1 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0020-91244 / Shield, 1-piece / Versa TTN
(1) / 0020-93555 / Ring, cover / Versa TTN
(1) / 3690-01847 / SCR CAP / Versa TTN
(1) / 0045-00250 / Matched pair / Versa TTN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa TTN
(1) / 0200-05044 / Ring, deposition / Versa TTN
Chamber-2 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-64644 / Shield, 1-piece / Versa WWN
(1) / 0200-06870 / Ring, deposition / Versa WWN
(1) / 0021-32761 / Ring, cover / Versa WWN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa WWN
Chamber-4 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-53619 (Rev03) / Shield, 1-piece / RF Si
(1) / 0200-07582 (Rev05) / Ring, deposition / RF Si
(1) / 0021-54932 (Rev04) / Ring, cover / RF Si
(1) / 0021-26896 (Rev03) / Disk shutter / RF Si
(1) / 0020-07884 (Rev02) / Insulator source shield / RF Si
(1) / 0041-25800 (Rev02) / Ring spacer / RF Si
Target:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / D0190-23987003 / END TI16.008-1T-0P / Versa TTN
(1) / NMJ-14040801-HL4 / END-W16411-0309T-DB / Versa WWN
(1) / D0190-3376702 / - / RF Si
Endura spare parts:
Chamber-1 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0020-91244 / Shield, 1-piece / Versa TTN
(1) / 0020-93555 / Ring, cover / Versa TTN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa TTN
(1) / 0200-05044 / Ring, deposition / Versa TTN
Chamber-2 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-64644 / Shield, 1-piece / Versa WWN
(1) / 0200-05896 / Ring, deposition / Versa WWN
(1) / 0021-32761 / Ring, cover / Versa WWN
(1) / 0021-26896 / Disk shutter / Versa WWN
Chamber-4 process kit:
Qty / Part number / Description / CH
(1) / 0021-87836 (Rev2) / Straight shield extended 190mm spacing / RF Si
(1) / 0200-08030 / Insulator source shield / RF Si
(1) / 0021-80310 / Cover ring / RF Si
(1) / 0200-12296 / Depo ring / RF Si
(2) / 0021-26896 / Shutter disk / RF Si
(1) / 0041-29007 / Spacer ring / RF Si
(6) / 3690-01929 / SCR CAP SKT HD / RF Si
(6) / 3690-02288 / SCR CAP SKT HD / RF Si
2009 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II는 맞춤형 복합 원자로 공학을 완전히 새로운 수준으로 끌어 올릴 것입니다. 다기능적이고 강력한 이 플랫폼은 다양한 프로세스 (process) 를 처리하며, 이를 통해 고객은 자원을 최적화하고 생산성을 극대화할 수 있습니다. AKT 엔두라 II (Endura II) 는 프로세스 복잡성, 품질, 안전성 면에서 탁월한 성능을 지닌 오늘날의 공장에서 완벽한 제조 시스템을 제공합니다. AMAT Endura II는 경쟁에서 눈에 띄는 몇 가지 기능을 자랑합니다. 차폐 챔버, 진공 소스, 진공 펌프, 온도 센서, 열전대, 공정 가스 라인, 가스 밸브, 컨트롤러 등과 같은 표준 구성 요소가 특징입니다. 또한, 이 플랫폼은 고급 프로세스 (advanced process) 의 고유한 요구 사항을 충족하도록 구성을 사용자 정의할 수 있습니다. 또한, Endura II는 청결, 오염 제어 및 열 전달 측면에서 높은 산업 표준을 충족합니다. 이 고급 원자로는 반도체, 어닐링, 리플로우 및 유전체 코팅 공정의 많은 응용 분야에 이상적입니다. 반도체 공정과 관련하여 APPLIED MATERIALS Endura II는 장치 구조 형성에 필수적인 조건을 설정하는 데 뛰어납니다. 또한 장치 최적화 및 수율 개선에도 적합합니다. 또한 다양한 처리 가능한 재료와 옵션을 통해 AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II를 사용하면 기판 균질성, 전기 특성 및 기타 프로세스 요구 사항을 최적화할 수 있습니다. AKT Endura II는 또한 어닐링 프로세스에서 뛰어납니다. 이 "프로 '는 기계 전체 에 걸쳐 훌륭 한 통일성 을 제공 하는 특수 난방" 프로파일' 을 만드는 효율적 인 방법 으로 설계 되었다. 이것은 일관된 전기 특성과 높은 수율을 만드는 데 도움이됩니다. 또한, AMAT Endura II는 리플로우 결과를 향상시키는 데 유익하며, 용광로 요소의 안정적이고 부드러운 가열을 제공합니다. Endura II는 또한 뛰어난 유전체 코팅 기능을 제공합니다. 정밀도, 정확도가 높아 기판 표면의 정확하고 반복 가능한 코팅이 가능합니다. 또한 표면 확산 및 활용에 대한 최적의 조건을 만드는 한편, 과도한 필름 (film) 과 입자 오염 (particle contamination) 을 방지하는 데 능숙합니다. 무엇보다도, APPLIED MATERIALS Endura II는 다양한 프로세스를 처리하고 안정적이고 반복 가능한 결과를 제공 할 수있는 뛰어난 원자로 솔루션입니다. 오늘날의 첨단 프로세스용으로 이상적으로 구성되어 있으며, 업계 최고의 청결도 (Cleanliness), 오염 제어 (Contamination Control), 열 전달 (Heat Transfer) 기능을 제공합니다. 이러한 모든 기능을 통해 AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II가 오늘날 주요 반도체 제조업체 중 다수에게 선택의 원자로 인 이유는 분명합니다.
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