판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura II #9072277

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ID: 9072277
PVD Chamber, pre-clean.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II는 반도체 산업을 위해 설계된 최첨단 플라즈마 에치 원자로입니다. 이 유연하고 효율적인 도구는 강철, 실리콘, 알루미늄, 구리, 탄탈륨, 갈륨 비소, 가아스 및 기타 금속 및 재료를 식각 할 수 있습니다. 에치 (etch) 프로세스에 대한 높은 에칭 속도 (etching rate) 와 정확한 제어 (control) 를 제공하도록 설계되어 최첨단 장치 생산에 이상적입니다. AKT Endura II는 반도체 운영의 성능과 생산성을 극대화하기 위해 제작되었습니다. 견고한 디자인은 한 번에 최대 4 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있으며, 높은 균일성과 정확도를 유지합니다. 광범위한 작동 압력 범위 (30-1000 mTorr) 는 다재다능하며 다양한 에칭 및 증착 응용 프로그램에 적합합니다. AMAT 엔두라 II (AMAT Endura II) 는 유연성이 뛰어난 하드웨어로, 이온 에너지를 능동적으로 튜닝할 수 있으며, 초저에너지 에치에서 광범위한 고정밀 프로세스 어플리케이션에 이르기까지 광범위한 에칭 프로세스를 지원합니다. 엔두라 II (Endura II) 에는 사용자 정의 프로세스 레시피 및 자동 제어 시퀀스를 쉽게 준수할 수있는 임베디드 고급 디지털 제어 장비가 포함되어 있습니다. 이 제어 시스템은 etch 프로세스 최적화에 대한 포괄적인 피드백 및 진단을 제공합니다. APPLIED MATERIALS Endura II에는 특허 된 펄스 바이어스 (pulsed-bias) 및 다면적 완화 장치가 장착되어 있어 전체 에치 및 증착 과정에서 일관된 프로세스 조건을 보장합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura II의 자동 조정 기능으로 에치 속도의 정확성과 반복성이 더욱 향상되었습니다. 이 기능은 가장 최적의 프로세스 설정을 자동으로 감지하여 프로세스를 빠르고, 재현적으로 완료할 수 있습니다. AKT Endura II에는 또한 정확한 플라즈마 생성 및 특성화를위한 멀티 챔버 플라즈마 프로파일링 머신 (plasma profiling machine) 이 포함되어 있으며, 반복 가능하고 고효율 주기를 가능하게합니다. AMAT Endura II는 반도체 산업에서 사용하기에 이상적인 효율적이고 정밀한 에치 원자로입니다. 유연성이 뛰어난 하드웨어, 고급 디지털 제어 (Digital Control) 툴과 함께 한 번에 최대 4 개의 웨이퍼를 처리할 수 있으므로 운영 운영에서 매우 정확하고 반복 가능한 결과를 얻을 수 있습니다. 또한 'AKT 보증' 및 '서비스 계약' 의 지원을 받아 최고의 고객 만족도를 보장합니다.
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