판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura HP 5500 #293822305
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ID: 293822305
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 2019
PVD System, 6"
Dual loadloack
Dual transfer chamber & dual on-board 8F cryopumps
Orienter / degas module
Preclean chamber & LEYBOLD TMP361C Turbopump
Chamber 2:
PVD sputter chamber
On-board 8F cryopump
Chamber 3:
Wide body PVD sputter chamber
On-board 8F cryopump
Control cabinet
Generator rack
(2) Advanced energy pinnacle RF generators
(2) CTI-CRYOGENICS 9600 Helium compressors
Motor controller
EDWARDS iXL 1000 Vacuum pump
EDWARDS iXL120 vacuum pump
THERMO FISHER Recirculating chiller
COMDEL CDX-2000 dual RF generator
Power cabinet
Voltage: 208V
Frequency: 60Hz
RPM: 3ph
Currency: 150kVA
2019 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HP 5500은 고급 반도체 장치의 대용량 제조를 위해 특별히 설계된 최첨단 화학 증기 증착 (CVD) 원자로입니다. 이 원자로 는 여러 재료 의 박막 을 집적회로 생산 의 핵심 단계 인 "실리콘 웨이퍼 '에 증착 시키는 데" 반도체' 제조 공장 에 사용 되는 중요 한 도구 이다. AMAT 엔두라 (Endura) HP 5500의 주요 기능 중 하나는 높은 처리량 기능으로, 짧은 시간 내에 대량의 웨이퍼를 효율적으로 처리할 수 있습니다. 이것은 고급 자동화 시스템, 최적화 된 가스 흐름 제어, 개선 된 웨이퍼 처리 메커니즘을 통해 달성됩니다. 원자로 (reactor) 는 가동 중지 시간을 최소화하고 생산성을 극대화하여 대용량 반도체 제조 설비를 위한 이상적인 선택입니다. APPLIED MATERIALS Endura HP 5500에는 여러 공정 챔버가 장착되어 있으며, 각각 서로 다른 증착 공정을 동시에 수행 할 수 있습니다. 여러 종류의 박막 (thin film) 이 병렬로 웨이퍼 (wafer) 에 배치 될 수 있으므로 제조 공정의 유연성과 효율성이 향상됩니다. 원자로는 또한 증착 과정에서 웨이퍼의 정확하고 균일 한 가열을 보장하기 위해 고급 온도 조절 시스템 (Advanced Temperature Control System) 을 갖추고 있어 고품질 필름 성장과 장치 성능 향상으로 이어진다. 원자로는 유전체 필름, 금속 필름, 화합물 반도체 등 다양한 재료를 처리하도록 설계되었습니다. 이러한 다용도로 인해 Endura HP 5500은 메모리 칩에서 논리 장치, 전원 장치에 이르기까지 반도체 제조의 다양한 어플리케이션에 적합합니다. 원자로는 또한 다양한 두께와 속성을 가진 필름 (film) 을 증착 할 수 있으며, 제조업체는 특정 장치 요구 사항에 맞게 프로세스를 조정할 수 있습니다. 프로세스 제어 측면에서 AMAT/APPLIED MATERIALS Endura HP 5500은 고급 모니터링 및 제어 시스템을 갖추고 있어 정확하고 재현 가능한 증착 결과를 보장합니다. 원자로에는 연산자가 증착 과정에서 필름 두께, 구성 및 균일성을 모니터링 할 수있는 실시간 도량형 (real-time metrology) 도구가 장착되어 있습니다. 이 피드백 루프 (feedback loop) 를 사용하면 프로세스 최적화 및 제어를 통해 필름 품질과 생산성을 향상시킬 수 있습니다. AMAT Endura HP 5500은 또한 지속 가능성을 고려하여 설계되었으며, 에너지 효율적인 구성 요소와 프로세스를 통해 환경에 미치는 영향을 최소화합니다. 원자로에는 유해 부산물의 배출량을 줄이기 위해 폐기물 가스 감축 시스템 (waste gas abatement system) 과 가스 소비를 최소화하기 위해 효율적인 가스 전달 시스템 (gas delivery system) 이 장착되어 있습니다. 이러한 지속 가능성 기능을 통해 APPLIED MATERIALS Endura HP 5500은 탄소 배출량을 줄이고 환경 규정을 준수하려는 반도체 제조업체에게 선호되는 선택입니다. 전반적으로 Endura HP 5500은 대용량 반도체 제조를 위해 높은 처리량, 유연성 및 정밀도를 제공하는 최첨단 CVD 원자로입니다. 첨단 설계, 프로세스 제어 기능, 지속 가능성 (Sustainability) 기능을 통해 향상된 성능과 안정성을 갖춘 차세대 반도체 (Semiconductor) 장치를 생산할 수 있습니다.
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