판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura CL #9281524

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ID: 9281524
웨이퍼 크기: 12
PVD System, 12" Chamber: Degas.
AMAT/AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL Reactor는 고급 마이크로 전자 장치 제조를 위해 특별히 설계된 고급 클러스터 도구입니다. 이 원자로는 확장 가능한 클러스터 시스템 (Scalable Cluster System) 을 사용하여 유연성과 업그레이드 기능을 제공하여 디바이스 성능을 향상시킵니다. AMAT Endura CL Reactor는 SSC (Sub-Stride Chamber) Technology와 같은 일련의 훌륭한 기능을 사용하여 웨이퍼-웨이퍼 로딩 오류를 크게 줄일 수 있습니다. 이 기술은 저비용, 저정비, 저정적 용량 챔버 충전 프로세스를 기반으로 합니다. APPLIED MATERIALS Endura CL Reactor는 또한 PD (Programmed Deposition) 기능을 사용합니다. 이 기능은 특정 레이어의 균일 한 증착을 보장하며, 최대 4 개의 레이어의 단일 레이어 (monolayer) 및 디지털화 된 증착을 모두 허용합니다. 이를 통해 빠르고 정확한 증착이 가능합니다. Endura CL Reactor는 또한 장치 성능을 향상시키기 위해 독특한 PEI (Plasma Edge Isolation) 기술을 제공합니다. 이 기능은 장치 누출을 최소화하고, 에치 속도를 높이고, 더 매끄러운 증착을 렌더링하는 데 도움이 됩니다. 또한 이 원자로에는 최적, 실시간 에치 및 딥 결과를 위해 고급 현장 EP (in-situ endpointing) 및 FQS (film Quality Sensing) 기능이 장착되어 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura CL Reactor는 업계 최고의 프로세스 균일성과 강력한 프로세스 제어를 위해 설계되었습니다. 이것은 정확한 용량 및 온도 제어를 허용하는 연동, 동적 4 구역 간격 트랙 히터 및 현장 내 엔드 포인트 검출을 사용하여 달성됩니다. AMAT Endura CL Reactor는 또한 높은 처리량, 빠른 액세스, 낮은 오염 및 쉬운 유지 관리를 지원하기 위해 업계 최고의 웨이퍼 처리 시스템으로 제작되었습니다. 원자로는 빠른 서울 다운 (cool-down) 및 워밍업 (warm-up) 시간을 제공하여 빠른 기판 전환 및 우수한 웨이퍼 투 웨이퍼 처리량을 가능하게합니다. APPLIED MATERIALS Endura CL Reactor는 고급 마이크로 일렉트로닉스 제조를 위한 최적의 성능과 에너지 효율성을 제공합니다. 고수준 공정 제어 (process control) 기능과 결합된 이 원자로의 통합 기능을 통해 서브미크론 수준의 마이크로칩 (microchip) 및 기타 복잡한 장치 구조를 가장 안정적이고 효율적으로 구성 할 수 있습니다.
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