판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9304004
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ID: 9304004
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 1997
System, 6"
MF Facilities: Rear
Heat exchanger: NESLAB I
Buffer robot type: HP
Transfer robot type: HP
Hard Disk Drive (HDD): SCSI
Buff robot blade: Ceramic
Wafer sensor: Mini beam
Loadlock type: Narrow body without tilt out
Transfer robot blade: Metal
Signal tower: 3 Color
System umbilicals: 25 ft
EMO
No GEM
No OTF
Controller
Generator rack
(2) CTI-CRYOGENICS 9600 Compressors
CTI-CRYOGENICS Motor controller: 3 Phase
EBARA A07V Pump
Main AC box
Transformer: 200 VAC,3 Phase, 50/60 Hz
MF Enclousure cover installed
MF Gas box
Laser assy
OB- 8F Cryo pump: Enhanced type
Process lift: Motorize type
SBC BD Type: V452
Buffer / Transfer: VHP Conversion possible type
MF Facility box
UPS: Interface type
Chamber A:
Type: PC-II
ADVANCED ENERGY LF10A RF Generator
COMDEL CPS1001S RF Generator
Gas valves: Nupro
Manometer: 100m Torr
LEYBOLD Turbovac 361C Pump
Lid: Resonator
Match box, 6"
LEYBOLD Turbotronic 150 / 360 Turbo controller
EBARA A07V Pump
Gasses:
LEYBOLD Turbo pump
MFC Size / Gas name / MFC Type
300 / Ar / Stec 4400
20 / Ar / Stec 4400
Chamber B:
Type: Cool down
Gas valves: Nupro
Heater / Cathode cooling: PCW
Lid modified to Quartz lid
Chamber 1:
Process: TTN
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-L12-650 DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Ion gauge: Nude type
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Chamber 2:
Process: AL
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-L12M Power supply
ADVANCED ENERGY MDX-L12 Power supply
Susceptor / Pedestal: 4F
Heater / Cathode cooling: NESLAB I
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
MKS Residual gas analyzer installed
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Gas stick configuration
Gas 1 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / Standard
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / Standard
Chamber 3:
Process: Ti
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-10K DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Chamber 4:
Process: TTN
Type: STD Body
Manometer configuration: Single
Manometer: 100m Torr
No shutter option
Lid type: 11.3"
ADVANCED ENERGY MDX-650 HiZ DC Power supply
Susceptor / Pedestal: 101
3-Position gate valve
OB-8F Pump: 3 Phase
Lift type: Basic motorize type
Gasses:
Gas / MFC Size / Gas name / MFC Type / Qty / Gas stick configuration
Gas 1 / 200 SCCM / N2 / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 2 / 100 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Gas 3 / 20 SCCM / Ar / Stec 4400 / (2) / Manifolds
Missing parts for chamber 1:
Drive: 2 Phase
Motor
Gear box
Gear box mount
Belt
Slot / Top rack boards:
1 / SBC Board
2 / Videl board
3 / OMS Board
4 / DI/O Board
5 / DI/O Board
6 / DI/O Board
7 / DI/O Board
8 / DI/O Board
9 / DI/O Board
10 / SEI Board
11 / No 486C
12 / No seriplex
13 / No DI/O board
14 / No AO board
15 / Stepper board
16 / No spare
17 / No spare
18 / Stepper board
19 / AI Board
20 / AO Board
21 / AO Board
22 / Hard Disk Drive (HDD)
23 / No grounding JAC
24 / Convectron board
25 / Convectron board
26 / Convectron board
27 / Convectron board
28 / No TC
29 / No TC
30 / ION Gauge board
31 / ION Gauge board
32 / No spare
33 / DI/O Board
34 / DI/O Board
35 / DI/O Board
36 / DI/O Board
37 / DI/O Board
38 / No DI/O board
39 / No DI/O board
40 / Floppy Disk Drive (FDD)
41 / No spare
42 / Cryo temp
43 / AI Mux
44 / AI Mux
45 / No AI Mux
46 / No spare
47 / Opto detect board
48 / Opto detect board
49 / Opto detect board
50 / No spare
UPS: 200 VAC, 3 Phase, 50/60 Hz, 350 A
1997 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500은 반도체 생산에 사용하도록 설계된 높은 처리량, 모든 기능을 갖춘 에피 택시 원자로입니다. AKT Endura 5500에는 전체 자동 로더/언로더 (unloader) 및 여러 프로세스 챔버 (process chamber) 가 있어 신속한 프로세스 설정 및 최적화된 프로세스 균일성이 가능합니다. AMAT ENDURA 5500은 소형 및 대구경 에피 택시 웨이퍼에 높은 처리량을 제공하도록 설계되었습니다. AMAT Endura 5500은 실리콘, 실리콘-게르마늄, 탄소 도핑 실리콘 및 기타 화합물에서 다양한 물질의 성장을 위해 화학 증기 증착 (CVD) 및 분자 빔 에피 택시 (MBE) 를 포함한 다양한 공정 화학 물질을 지원합니다. 이러한 유연성은 전통적인 논리 장치, MEMS (microelectromechanical system), 고급 논리 및 광전자 구성 요소를 포함한 다양한 제품의 생산을 수용합니다. 이 시스템은 프로세스 설정을 단순화하는 독보적인 단일 소스 (single-source) 리모콘을 갖추고 있으며, 최대 3개의 APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 시스템에 대한 완벽한 원격 모니터링을 지원합니다. 여기에는 온도, 성장률, 프로세스 압력 등 여러 프로세스 매개변수에 대한 실시간 액세스 (real-time access) 와 프로세스 챔버 (process chamber) 를 직접 작성할 수 있습니다. 이 데이터는 프로세스 문제를 신속하게 찾고 해결하는 데 매우 유용합니다. ENDURA 5500은 다양한 프로세스 챔버 구성, 제약된 래프트, 박스 크기를 제공하여 빠르고 효율적인 웨이퍼 사이클링 (wafer cycling) 및 대용량 생산이 가능합니다. 구속 된 서까래는 강화 된 균일 제어 (unifority control) 를 특징으로하여 계단식 방식으로 웨이퍼를 배치하여 전체 웨이퍼에 걸쳐 일관된 열 균일 성을 보장합니다. 고도로 통합된 카메라 시스템을 사용하면 4, 6, 8, 12 인치 웨이퍼를 자동으로 조정할 수 있으므로 일관되고 정확한 웨이퍼 처리 및 처리가 가능합니다. APPLIED MATERIALS Endura 5500은 또한 완전히 자동화된 웨이퍼 처리 모듈을 제공하여 시간이 많이 소요되는 수동 웨이퍼 처리 및 로딩을 제거합니다. 여기에는 Endura 5500의 서명 회전 카세트 전송 시스템 (Rotating Cassette Transfer System) 이 포함되어 있어 무중단 생산을 위해 최대 10개의 웨이퍼 카세트를 지속적으로 자동화하고 언로드할 수 있습니다. 전반적으로 AKT ENDURA 5500은 빠른 대용량 웨이퍼 생산을 위해 설계된 최고의 기능의 epitaxial 원자로입니다. 이 장치에는 최신 프로세스 챔버 성능 (process chamber performance), 자동 웨이퍼 로딩 (automated wafer loading), 원격 모니터링 및 최적화된 균일성 제어 (unifority control) 기능이 장착되어 있어 일관성 있고 안정적인 생산이 보장됩니다.
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