판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9257162
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판매
ID: 9257162
Sputtering system, 6"
Load lock chamber:
LLC Type: Narrow body
Indexer without rotation
Wafer mapping
CH Vent: Slow / Fast vent
No wafer slide out detector
Buffer chamber:
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD Robot
Upper and lower motors
(2) Gate valves
Cryo pump: 3 Phase
(7) Wafer sensors
Transfer chamber:
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD Robot
Upper and lower motors
(2) Gate valves
Cryo pump: 3 Phase
(6) Wafer sensors
Chamber A: Pass through
Chamber B: Cool down
Chamber A / B:
Lid type: Clear plastic
Wafer lift
Wafer lift hoop
No TC monitor
Chamber E / F: Orienter degas
Degas lamp module
Wafer lift
Wafer lift hoop
Wafer chuck
Orienter controller PCB
Laser CCD array PCB
No TC
No TC amp
Chamber 1: PVD Wide body
Source assy: 11.3"
Source bracket kit
COH TI Adapter plate
Wafer lift: Clamp
Heater: Clamp
Heater water box: Clamp
MKS 100 mT Manometer
Ar Backside
(2) Gate valves
Ion gauge
Shutter option
Cryo pump, 3 Phase
Heater type: Clamp
Chamber harness
Chamber inter-connect PCB
Chamber process gas line
Chamber vent line
Chamber source water manifold
Chamber pneumatic 1/8 poly line set
Chamber 2: PVD Wide body
Source assy, 11.3"
Source bracket kit
Adapter plate: WB to STD 13"
Wafer lift: Clamp
Heater: Clamp
Heater water box: Clamp
MKS 100 mT Manometer
Ar Backside
(2) Gate valves
Ion gauge
Shutter option
Cryo pump: 3 Phase
Chamber harness
Chamber inter-connect PCB
Chamber process gas line
Chamber vent line
Chamber source water manifold
Chamber pneumatic: 1/8 Poly line set
Chamber 3 / 4: PVD Wide body
Source assy: 11.3"
Source bracket kit
Adapter plate: WB to STD 13"
Wafer lift: Clamp
Heater: Clamp
Heater water box: Clamp
MKS 100 mT Manometer
Convectron gauge
Ar Backside
(3) Gate valves: PVD
Ion gauge
Shutter option
Heater type
Chamber harness
Chamber inter-connect PCB
Chamber process gas line
Chamber vent line
Chamber source water manifold
Chamber pneumatic: 1/8 Poly line set
Chamber C: PCII Etch
Resonator
Pedestal lift
MKS Manometer
Convectron gauge
Ion gauge
Turbo pump
Wafer lift
RF Match
No process kit
Chamber 1, 2, 3, 4, C:
Gas panel assy
MFC: STEC 4400
MFC Down steam valve
Manual shut off valve
MFC Control cable
MFC Inter-connect PCB
Sub-module:
CTI-CRYOGENICS 9600 Cryo compressor
(2) Cryo controllers: 3 Phase
NESLAB III Chiller
Vacuum pump
System pump: BOC EDWARDS QDP40
PCII Pump: BOC EDWARDS QDP40 + MB250
System rack: VEM
SBC
SEI
(12) DIO
AI
(2) AO
(3) Opto PCB
(2) AI MUX
Cryo temp / AI MUX
(4) Steppers PCB
TC Gauge PCB
(2) Ion gauges PCB
(4) Invertron gauges PCB
OMS PCB
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD)
(4) HTR Lift drivers, 2-Phase
(6) Robot drives, 5-Phase
RF Rack:
RF / DC Rack
(5) ISO Amp
(4) DC / RF Generator interlocks PCB
DC Power supply
ADVANCED ENERGY MDX-L12 DC Generator
CPS 1001 RF Generator
RFPPLF10A RF Generator
Missing parts:
Metal blades
Laser tubes
Heater type: Clamp
Cryo pump, 3 Phase
Turbo controller
RF / DC Rack
ADVANCED ENERGY MDX-L Series DC Generator
RF Generator, 13.56 MHz / 400 kHz
Power supply:
AC Rack type: 480 VAC, 3 Phase, 4+1 Wire with transformer
DC Power supply: +5 VDC / +24 VDC
DC Power supply: +/-15 VDC / +/-12 VDC
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500은 습식 식각을위한 반도체 기반 고밀도 플라즈마 원자로입니다. 이 원자로는 고급 집적 회로 (Advanced Integrated Circuit) 의 생산 및 엔지니어링에서 뛰어난 균일성을 제공하도록 설계되었습니다. 광범위한 Plasma 자원 옵션과 최첨단 프로세스 제어/모니터링 기능을 제공합니다. AKT Endura 5500 액션 시스템은 프로세스 편차를 줄이고, 향상된 성능과 수율을 제공하도록 설계되었습니다. AMAT ENDURA 5500은 질화 갈륨 (GaN) 에치 공정을 갖는 것으로 설계되었다. 다이오드 펌핑 펄스 플라즈마 소스 모듈, 프로세스 제어 모듈 및 에치 모듈이 특징입니다. 펄스 플라즈마 소스는 고압, 고효율 장치로, 플라즈마 매개변수를 세밀하게 제어하여 에칭 성능을 향상시킵니다. 프로세스 제어 모듈은 다양한 생산 요구 사항에 유연성을 제공합니다. 여러 개의 가스 라인 및 전달 밸브를 제어하고 가스 압력, 플래튼 전압, 에치 타임, 플래튼 전압 바이어스, 챔버 온도, 기타 등 여러 에치 매개 변수를 쉽게 실시간 전환 할 수 있습니다. 에치 모듈은 유연성, 에치 프로세스 가속, 에치 패턴 균일성을 제공하도록 설계되었습니다. 잠재적 인 프로세스 편차를 줄이기 위해 복제 가능한 플래튼 (platen) 설계가 특징이며, 특수 에치 프로세스에 대한 특정 플래튼 (platen) 설계도 가능합니다. AKT ENDURA 5500은 유지 보수 요구 사항이 낮은 신뢰성이 높은 원자로입니다. 높은 생산량을 유지하면서 낮은 결함율을 달성 할 수 있습니다. 이 원자로는 직관적인 사용자 인터페이스 (User Interface) 와 간편한 단계별 프로세스 지원을 통해 사용 편의성을 위해 설계되었습니다. 프로세스 엔지니어 (Process Engineer) 와 프로덕션 담당자에게 프로세스 결과에 대한 소중한 피드백을 제공하므로 주기 (Cycle-time) 가 빨라지고 수익률이 향상됩니다. 이 원자로는 또한 생산 및 엔지니어링을위한 프로세스 매개변수의 장기 안정성 및 반복 성을 위해 설계되었습니다. 전반적으로 AMAT Endura 5500은 습식 에칭 (Wet Etching) 을위한 고도로 안정적이고 사용하기 쉬운 고밀도 플라즈마 원자로입니다. 향상된 프로세스 제어, 균일 한 에치 패턴, 향상된 제품 수율을 제공하도록 설계되었습니다. 또한 더욱 쉽고, 빠르고, 반복 가능한 (repeatable) 프로세스를 제공하는 한편, 엔지니어 및 운영 담당자에게 프로세스 결과에 대한 소중한 피드백을 제공합니다.
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