판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9221707
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판매
ID: 9221707
빈티지: 1993
PVD System
Chambers:
(4) PVD chambers (2 TiN and 2 Al)
(2) Degas chambers
(1) Preclean chamber
CTI-CRYOGENICS / HELIX TECHNOLOGY 0120-60-4887
CTI-CRYOGENICS Roughing Valve 8112579G001
CTI-CRYOGENICS On-Board 8F Cryopump 8116142G001
CTI-CRYOGENICS Roughing Valve 8112579G001
CTI-CRYOGENICS On-Board 8F Cryopump 8116027G001
CTI-CRYOGENICS / HELIX TECHNOLOGY 0120-60-4887
CTI-CRYOGENICS SPLTR Box Tool 8135240G001
MKS Type 627 Pressure Transducer
MKS Type 627 Pressure Transducer
MKS Type 627 Pressure Transducer
CTI-CRYOGENICS Roughing Valve 8112579G001
CTI-CRYOGENICS SPLTR Box Tool 8135240G001
CTI-CRYOGENICS On-Board FastRegen Sputtering Control
CTI-CRYOGENICS On-Board 8F Cryopump 8116027G001
CTI-CRYOGENICS Roughing Valve 8112579G001
CTI-CRYOGENICS Valve 8112095
CTI-CRYOGENICS On-Board 8F Cryopump 8116027G001
CTI-CRYOGENICS On-Board FastRegen Sputtering Control
MKS Type 627 Pressure Transducer
Endura Wafer Lift Assembly 101 Rev. 003 0010-70271
8" Preclean II RF Match 0010-20524 (Label PN 0060-21140)
Endura Wafer Lift Assembly Preclean 2 Rev. 003, 21902-08
MKS Type 627 Pressure Transducer
0010-20277
8" Degas Lamp 350C 0010-20317
8" Degas Lamp 350C 0010-20317
CTI-CRYOGENICS On-Board Module 8113100G001
CTI-CRYOGENICS Roughing Valve 8112579G001
Gas Box #1 0010-20217 Rev. B
CTI-CRYOGENICS / HELIX TECHNOLOGY 0120-60-4887
CTI-CRYOGENICS On-Board 8F Cryopump 8116142G001
Loadlock A (11)
Loadlock B (0620-01049)
Operator Control Panel BD Assy. 0100-20032 Rev. D
ViewSonic E55 Monitor VCDTS21914-2M
Standalone VGA Monitor Base 0010-70386 Rev. A
Gas Box #2 0010-20218 Rev. B
Gen Rack #1
ADVANCED ENERGY MDX-L12M
ADVANCED ENERGY MDX-L12-650
ADVANCED ENERGY MDX-L12M-650
Gen Rack #2
ADVANCED ENERGY MDX-L12M
ADVANCED ENERGY MDX-L12M
Gen Rack #3
ADVANCED ENERGY LF10A
COMDEL RF Power Source CPS-1001S
GRANVILLE-PHILLIPS Ionization Gauge Supply 332102
15V PS Assembly
24V PS Assembly
CTI-CRYOGENICS On-Board 3PH MTR Control 8124063G001
CPRSR High Perf Model 9600 3620-01389 Rev. A
CTI-CRYOGENICS On-Board 3PH MTR Control 8124063G001
Thornton 200CR
CTI-CRYOGENICS 9600 Compressor 8135917G001
CTI-CRYOGENICS 9600 Compressor 8135909G001
NESLAB BOM # 327099991701
EBARA A30W
EBARA A70W
HARMONIC GEAR UGH50-28
VEXTA 5-Phase Stepping Motor A4249-9215HG
VEXTA 5-Phase Stepping Motor A4249-9215HG-A1
GEORG FISCHER V 82
Supply voltage: 480 VAC, 3 phase, 50/60 Hz
Max system rating: 150 kW
Largest load ampere rating: 42 A
Interrupt current: 10,000 Amps IC
1993 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500은 반도체 제조 산업을 위해 설계된 대용량 플라즈마 가공 장비입니다. 이 "시스템 '은" 플라즈마 에칭' 과 증착 에 의하여 "실리콘 '과" 사파이어' 등 여러 가지 "웨이퍼 '를 처리 하는 데 사용 될 수 있다. 또한 장벽 층, 산화물 층, 박막 (thin film) 스택 등 다양한 용도로 사용할 수 있습니다. AKT Endura 5500은 공정 챔버, 가스 캐비닛 및 공정 제어 모듈을 포함하는 프리스탠딩, 완전 통합 장치입니다. 이를 통해 압력 (Pressure), 가스 (Gas), 전원 설정 (Power Settings) 등 여러 기능을 독립적으로 제어할 수 있으므로 프로세스를 특정 응용 프로그램에 맞게 정확하게 조정할 수 있습니다. 이 기계는 또한 공구 환경에 존재하는 고전압 (high voltage) 과 온도로부터 사용자를 보호하기 위해 여러 차폐 재료 (shielding material) 를 포함합니다. 자산은 공정 챔버 (process chamber) 의 온도, 전력 및 가스 흐름을 높은 정밀도로 제어하도록 설계되었습니다. 전원 수준 범위는 300W ~ 5000W (광범위한 프로세스 설정 가능) 입니다. 챔버 온도는 1033 C와 1133C 사이에서 유지되며 압력은 0.002 torr에서 760 torr입니다. 또한 챔버의 유량은 0.18 리터/분에서 15 리터/분입니다. AMAT ENDURA 5500은 또한 Ion 및 Neutral Particle Mass Spectrometer (IPMS) 를 사용하여 실시간 현장 분석을 제공합니다. 이를 통해 연산자는 플라즈마 환경을 모니터링하고 프로세스를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한, 이 모델에는 향상된 장비 진단 및 프로세스 최적화 기능을 제공하는 개선 된 프로세스 제어 모듈이 있습니다. 또한 AKT ENDURA 5500은 장애 감지 시스템 (fault detection system) 및 스필오버를 포함하는 보호 가스 봉투 (protective gas envelope) 를 포함하여 향상된 안전 기능을 제공합니다. 이는 인력의 안전과 프로세스의 무결성을 보장합니다. ENDURA 5500은 정밀한 프로세스 제어 및 반복성을 가능하게하도록 설계된 효율적인 열 처리 장치입니다. 이 제품은 고급 반도체 장치의 제작 및 통합에 이상적인 선택입니다. 이 제품은 실리콘 웨이퍼의 에칭 (etching) 및 증착 (deposition) 과 같은 프로세스를 위해 강력하고 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다. 실시간 현장 분석 (in situ analysis) 과 다양한 설정을 통해, 이 기계는 다양한 응용 프로그램에 이상적입니다.
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