판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9193019
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판매
ID: 9193019
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 2000
PVD System, 8"
Wafer shape: SNNF
Chamber type / Location:
Ch-1 Copper SIP ENCORE CU
Ch-2 Refractory SIP ENCORE TA(N)
Ch-3 Refractory SIP ENCORE TA(N)
Cb-4 Copper SIP ENCORE CU
Ch-A Pass thru
Ch-B Cooldown with temp monitor
Ch-C Reactive preclean
Ch-D Reactive preclean
Ch-E Orientor ultra uniform O/D with temp feedback
Ch-F Orientor ultra uniform O/D with temp feedback
System safety equipment:
System EMO Type: Turn to release ETI compliant
Includes EMO button guard ring
Primary side trip amperage: 3P 600VAC 300 AINTCHG Trip unit
Circuit breaker on secondary: 600A
System water leak detector
Mainframe facility water flow
Electrical requirement:
Line frequency: 60 Hz
Line voltage: 480V
Transformer type: 480V; 225kVA
Main AC power inlet hole: Small
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500은 반도체 장치 제작, 평면 패널 디스플레이 제조, 전문 연구 분야 등 다양한 응용 분야에 사용하도록 설계된 CVD (Advanced Chemical Vapor Deposition) 원자로입니다. 원자로에는 2 개의 정적 PE-CVD 챔버와 2 개의 동적 스퍼터 코팅 챔버가 장착되어 있습니다. 각 챔버 (chamber) 는 프로세싱의 유연성을 높이고 하나의 시스템에서 여러 프로세스 조합을 허용하도록 개별적으로 처리됩니다. PE-CVD 챔버는 기판 분산에 대한 초저 기판을 사용하여 뛰어난 필름 균일성 및 레이어 반복 성을 제공합니다. 이 챔버에는 공정 모니터링 모듈 (Process Monitoring Module) 이 장착되어 있어 수작업 조정이나 교정이 잦지 않은 고성능 필름의 안정적이고 일관성 있는 성장을 보장합니다. 포함 된 진공 펌프는 10mTorr 미만의 기본 압력을 제공하며, 깨끗하고 낮은 오염 작업 환경을 보장하는 반면, 포함 된 가스 캐비닛 인터페이스 (gas cabinet interface) 는 지속적인 견고성과 재생성을 가능하게합니다. 동적 스퍼터 챔버 (dynamic sputter chamber) 는 기존의 스퍼터 코팅에 비해 스퍼터 시간을 줄여 훨씬 높은 증착률을 제공합니다. 코팅 사이클 (coating cycle) 동안 전원 수준을 변경할 수 있는 기능으로 유연성이 향상됩니다. 높은 소스 전력은 또한 특정 구성 요소에 대한 높은 증착 속도를 허용합니다. 포함 된 E-beam 총은 이온이 아닌 전자를 방출하고, 기판을 손상시키지 않을 양의 코팅 성장률을 생성합니다. 챔버 외에도 AKT Endura 5500에는 그래픽 사용자 인터페이스가있는 PC 제어 모듈이 포함되어 있습니다. 원격 액세스를 통해 운영 및 프로그래밍을 비교적 간단하게 수행할 수 있습니다. 터치스크린 제어판 (touchscreen control panel) 은 연산자에게 필요한 모든 제어 매개변수를 제공하며, 원자로 (reactor) 를 열지 않고도 설정을 세밀하게 조정할 수 있도록 합니다. 또한 다양한 진단 기능 (Diagnostic Function) 을 통해 원자로 설정 문제를 해결하고 최적화할 수 있습니다. AMAT ENDURA 5500은 비통일성 (non-unifority) 크리티컬 프로세싱이 필요한 중요한 기판 및 기판을 처리할 때 안정적이고 반복 가능하며 비용 효율적인 솔루션입니다. 멀티 챔버 (multi-chamber) 기능은 시스템의 다양성을 높이고 뛰어난 균일성과 장기적인 반복성을 제공합니다. 고성능, 저렴한 어플리케이션을 위한 완벽한 솔루션입니다.
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