판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9134838
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판매
ID: 9134838
빈티지: 1999
Frame,
AL sputter
Chamber information
a) Chamber A
- Chamber type: pass thru
- Chamber lid: metal lid
b) Chamber B
- Chamber type: cool down
- Chamber lid: metal lid
- Cooling method: By PCW / by gas
c) Chamber C
- Chamber type:
- Chamber process: PC II
- RF gen/DC power supply 1: Preclean
- RF gen/DC power supply 2: CPS-1001
- Turbo/cryo pump type: LF-10
- Turbo/cryo pump Type: 361C
e) Chamber E
- Chamber type: orient/degas
f) Chamber F
- Chamber type: orient/degas
g) Chamber 1
- Chamber type: wide body
- Chamber process: TiN
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 Position
h) Chamber 2
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
i) Chamber 3
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
j) Chamber 4
- Chamber type: STD body
- Chamber process: AL
- RF gen/DC power supply 1: MDX-L12
- Turbo/cryo pump type: CTI OB-8F
- Gate Valve: 2 position
j) System component
System Controller
- V440 SBC
- Ion gauge controller
- 15V, 24V DC power supply
- 5Ph driver
- 2Ph driver
Generator rack#1
- MDX-L12 3ea , MDX-L18 1ea
- Turbo controller 1ea
Generator rack#2
- CPS-1001 , LF-10
Cryo compressor
- 9600 comp 2ea
AC rack
- Short body
Cryo Pump
- 2Ph cryo OF-8F 6ea
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500은 반도체 웨이퍼에 다양한 층을 배치하는 데 사용되는 반도체 인라인 원자로입니다. 이 원자로는 증기 화학 증착 (VCD) 공정을 사용하여 매우 매끄럽고 고효율 레이어를 생성합니다. AKT Endura 5500은 프로세스 엔지니어가 VCD 프로세스를 빠르고 쉽게 설정할 수 있도록 설계되었습니다. AMAT ENDURA 5500은 짧은 주기 시간과 높은 처리량을 가진 생산 수준의 원자로입니다. 시간 당 최대 12 개의 웨이퍼를 생성 할 수 있으며, 주기 시간은 웨이퍼 당 5 초입니다. 원자로의 적응 제어 (adaptive control) 기술은 프로세스 매개변수를 지속적으로 조정하고 최적화하여 일관성 있고 고품질 필름을 보장합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500은 인라인, 클로즈드 루프 제어 시스템을 통해 프로세스에 대한 향상된 제어를 제공합니다. 이 시스템은 온도, 압력, 필름 두께, 균일성 (unifority) 과 같은 주요 프로세스 매개변수의 실시간 감지 및 피드백을 제공하여 증착 프로세스를 효율적으로 제어하고 일관된 레이어를 보장할 수 있습니다. 또한, AMAT Endura 5500은 다른 반도체 처리 장비와의 완벽한 통합을 제공하며, 새로 제작된 프로세스 툴과 연결될 수 있으며, 기존 도구로 개조할 수 있습니다. 원자로는 가열 및 냉각 작업에서 0.1 ° 의 반복 성을 제공하여 반복 가능한 결과를 제공합니다. APPLIED MATERIALS Endura 5500은 증기 화학 증착 공정을 사용하여 레이어를 뛰어난 속도와 특성을 가진 웨이퍼에 배치합니다. 이 VCD 프로세스는 금속 함유 물질의 필라멘트를 사용하는데, 이는 가열되고 기화된다. 기화 한 물질 이 "웨이퍼 '에 이르면, 그것 은 박막 층 으로 변화 된다. 이 레이어 (layer) 생산 방법은 마스킹이 필요 없으며, 빠른 속도와 정확도로 레이어를 생산할 수 있습니다. 응용된 재료 ENDURA 5500은 일반적으로 낮은 저항성 텅스텐 층, 높은 전기 및 열 전도성, 낮은 저항성 (low resistivity) 과 같은 특성을 가진 구리 텅스텐 및 알루미늄 층을 생성 할 수 있습니다. 이를 통해 원자로는 IC 장치, MEM 장치, 다양한 유형의 LED, 광전자 제품 등 다양한 반도체 프로세스에 적합합니다. AKT ENDURA 5500은 증착 프로세스에 대한 모범적인 수준의 제어, 정확하고 일관된 결과, 기존 처리 장비와의 통합을 갖춘 생산 수준의 원자로입니다. 이것은 모든 반도체 제조 공정에 필수적인 도구입니다.
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