판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9036092
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판매
ID: 9036092
PVD System, 8"
Wafer handling: SMIF
Front panel type: wide body
Software version: B88810
Single board computer in controller: Yes
Ion gauges: Yes
Robots (standard, HP, HP+, VHP, etc):
Buffer robot: HP+
Transfer robot:HP+
Blade material: Metal
Blade material: Metal
Load Lock: Wide Body
Narrow Body: tilt-out
Index handler type:
Loadlock vents: N2 vent
Basic Chamber setup: (PC II, Cooldown, O/D, pass through, CVD, other - w/o details)
A: Cool down
B: Cool down
C: Pre clean II
D: Pre clean II
E: Orient / Enhanced degas
F: Orient / Enhanced degas
Process: VECTRA IMP Ti
Platform: Endura
RF coil power supply: Advance Energy HFV 8000
Chamber temperature: Heater 100°C - Bake 30%
Pump Type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib
MFC #1: Argon Heater
MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 50 Sccm
MFC #2: Argon Final
MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 100 Sccm
Source type: Vectra IMP
Target type / vendor: D-Bond 0.25" - Honeywell
Target part # 7VX00236
Coil part # 7VX20266
Magnet type / part number: Type RH-2 P/N 0010-21676
Ar Psi: 20 PSI
Power supply: MDX 12KW
Shutter: Linkage
Heater: Original 4F
Process Kit (type/desc): IMP Process Kit Version 4.5
Upper Shield Part No: 0020-22498
Lower Shield Part No: 0020-22499
Shield Clamp Kit Part No: 0240-25440
DC Bias Hardware Kit PN: 0240-20021
Process: CVD TiN
Platform: ENDURA
Chamber temperature: 400°C
Chamber type: TxZ HP+
Heater: AMAT P/N 0010-03244
Pump Type: ALCATEL 602 P
HX: AMAT 1
HX temperature: 60°C
MFC #1: Argon Edge Purge
MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 3000 Sccm
MFC #2: Argon BTPur
MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 2000 Sccm
MFC #3: He Carrier
MFC #3 type / size: Stec SEC-4400M 500 Sccm
MFC #4: N2 Dil
MFC #4 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm
MFC #5: He Dil
MFC #5 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm
MFC #6: N2
MFC #6 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm
RF Power supply: ADVANCE ENERGY PDX 900-2V
HE carrier pressure: 18 PSI
HE DIL pressure: 30 PSI
Ampole temperature: 50°C
Gas line temperature: 60°C
Hot Box: 70°C
CVD Ion gauge: Absent
Process Kit (type/desc)
INSERT LINER EXHAUST TXZ 200MM: 0021-02469
RING, LOWER, ISOLATOR: 0021-02155
RING, MIDDLE, ISOLATOR: 0021-02156
EDGE RING, PURGE HEATER, 200MM TXZ: 0021-03094
SCREW, CENTERING PURGE HEATER 200MM TXZ: 0021-07418
OUTER SHIELD W/O WINDOW, TXZ CHAMBER: 0021-03980
INNER SHIELD HP TXZ IMP. UNIF.: 0040-06127
PIN, LIFT, TXZ HEATER: 0200-01798
PLATE,BLOCKER,TXZ 200MM: 0021-35744
FACE PLATE, BKM3 TXZ 200MM: 0040-01878
CHAMBER INSERT 200MM TXZ CIP: 0200-00261
ISOLATOR, SIN, ENH, PUMPING LID, DXZ GECO: 0200-10163
TUBE GAS FEED: 0020-31425
LID LINER, HPTXZ: 0200-00689
Process: PVD TiN
Platform: ENDURA
Ch temp control: Without temp control
Chamber type: WB
Pump Type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib
MFC #1: Argon
MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 100 Sccm
MFC #2: N2
MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 200 Sccm
Source type: G-12
Target type / vendor: D-Bond 0.35" - Praxair
Target part #: 7VX00135
Magnet type / part number: Type G-12 P/N 0010-20768
N2 Psi: 20 PSI
Ar Psi: 20 PSI
Power supply: MDX - L12M - 650
Shutter: Linkage
Heater: SST Pedestal Unclamped 101
Process Kit (type/desc): Shield Mounting G12 btn hd
Upper Shield Part No: 0020-25730
Lower Shield Part No: 0020-25077
Pedestal Part No: 0021-22028
Cover Ring Part No: 0020-24914
Process: Pre-clean
Pedestal type: Preclean II Pik1
Power supply 1: 400 KHz
Power supply 2: 13.56 MHz
Gasline fittings: VCR
Loadlock fittings: VCR
MFC type: Millipore / STEC
Paste chamber: NA
Chamber cryo pump type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib
Umbilicals:
Mainframe to controller: ~25 ft
Mainframe to generator racks: ~25 ft
Mainframe to cryo compressor: ~25 ft
Main AC to system controller/sys. AC: ~25 ft
Syst cont/sys AC to primary Gen rack: ~25 ft
Main AC to primary generator rack: ~25 ft
Main AC to pump frame: ~25 ft
Main AC to Neslab heat exchanger: ~25 ft
Monitor cable: ~25 ft
Monitor2 cable: ~25 ft
Monitor3 cable: ~15 ft
EMO button guard ring: Yes
Water leak detector: yes
Buffer and transfer lid hoist: Yes
Support Equipment:
AMAT 0 Heat exchanger 0010-76467
Cryo compressors:
(2) CTI Cryo pump 1 8135900G001
Neslab with resistivity meter
Soft copy pdf manuals
Currently in a fab
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactor는 요구 사항이 높은 웨이퍼 제작 프로세스에 대한 향상된 성능 요구 사항을 제공하는, 경제적인 고급 다목적 클러스터 도구입니다. 이 원자로는 에칭 (etching) 및 증착 과정에서 안정적이고 균일 한 환경을 제공 할 수 있습니다. AKT Endura 5500 Reactor는 가스 분포가 우수하고 다양한 옵션을 갖춘 고급 진공 장비를 사용하여 단일, 이중 및 멀티 챔버 작동을 위해 특별히 설계되었습니다. AMAT ENDURA 5500 (AMAT ENDURA 5500) 은 최소한의 공간이 필요한 컴팩트한 디자인으로 제작되었으며, 3 입방 미터 미만을 차지하여 모든 생산 공정에 쉽게 맞출 수 있습니다. AKT ENDURA 5500을 사용하면 3차원 방향으로 쉽게 포지셔닝할 수 있으므로 보다 효율적이고 쉽게 설치, 실행할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Endura 5500에는 런을 보다 빠르게 처리하고 냉각 할 수있는 독특한 냉각 시스템이 있습니다. 이 다목적 클러스터 도구는 에칭 및 증착 프로세스에 대한 옵션도 제공합니다. 엔두라 5500 (Endura 5500) 에는 모듈 식 에치 및 증착실 (deposition chamber) 디자인이 포함되어 있으며, 동일한 공간에서 에칭이 이루어짐에 따라 증착이 가능합니다. 이 다목적 (Multipurpose) 기능을 사용하면 원자로 내에서 다양한 프로세스가 완료 될 수 있습니다. Endura 5500Reactor는 뛰어난 성능과 내구성을 통해 저렴한 비용과 낮은 유지 관리를 제공합니다. 가스 배송 장치는 처리량 증가 및 제품 수율 향상에 빌려줍니다. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500의 높은 진공 기능은 웨이퍼 에지 효과를 제거하면서 품질과 반복성을 향상시킵니다. 엔두라 5500 (ENDURA 5500) 에는 에칭 (etching) 및 증착 (deposition) 프로세스 모두에 대한 높은 수준의 제어 및 정확성을 제공하는 다양한 제어 옵션이 제공됩니다. 원자로에는 공정 제어기 (process control machine) 와 작동 패널 (operator panel) 이 포함되어 있어 작동 편리성이 뛰어납니다. 제어 툴은 빠른 프로세스 개발, 고성능, 정확성으로 여러 프로세스 매개변수를 관리할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 의 첨단 기능과 컴팩트한 설계를 통해 다양한 애플리케이션에 적합합니다. 유연성, 간편한 설치로 모든 프로세스에 통합되는 동시에, 최적의 결과와 탁월한 성능을 제공할 수 있습니다. 원자로는 저렴한 비용, 높은 반복성, 향상된 처리량으로 에칭에서 증착까지의 모든 프로세스를 처리 할 수 있습니다.
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