판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9036092

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ID: 9036092
PVD System, 8" Wafer handling: SMIF Front panel type: wide body Software version: B88810 Single board computer in controller: Yes Ion gauges: Yes Robots (standard, HP, HP+, VHP, etc): Buffer robot: HP+ Transfer robot:HP+ Blade material: Metal Blade material: Metal Load Lock: Wide Body Narrow Body: tilt-out Index handler type: Loadlock vents: N2 vent Basic Chamber setup: (PC II, Cooldown, O/D, pass through, CVD, other - w/o details) A: Cool down B: Cool down C: Pre clean II D: Pre clean II E: Orient / Enhanced degas F: Orient / Enhanced degas Process: VECTRA IMP Ti Platform: Endura RF coil power supply: Advance Energy HFV 8000 Chamber temperature: Heater 100°C - Bake 30% Pump Type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib MFC #1: Argon Heater MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 50 Sccm MFC #2: Argon Final MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 100 Sccm Source type: Vectra IMP Target type / vendor: D-Bond 0.25" - Honeywell Target part # 7VX00236 Coil part # 7VX20266 Magnet type / part number: Type RH-2 P/N 0010-21676 Ar Psi: 20 PSI Power supply: MDX 12KW Shutter: Linkage Heater: Original 4F Process Kit (type/desc): IMP Process Kit Version 4.5 Upper Shield Part No: 0020-22498 Lower Shield Part No: 0020-22499 Shield Clamp Kit Part No: 0240-25440 DC Bias Hardware Kit PN: 0240-20021 Process: CVD TiN Platform: ENDURA Chamber temperature: 400°C Chamber type: TxZ HP+ Heater: AMAT P/N 0010-03244 Pump Type: ALCATEL 602 P HX: AMAT 1 HX temperature: 60°C MFC #1: Argon Edge Purge MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 3000 Sccm MFC #2: Argon BTPur MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 2000 Sccm MFC #3: He Carrier MFC #3 type / size: Stec SEC-4400M 500 Sccm MFC #4: N2 Dil MFC #4 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm MFC #5: He Dil MFC #5 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm MFC #6: N2 MFC #6 type / size: Stec SEC-4400M 1000 Sccm RF Power supply: ADVANCE ENERGY PDX 900-2V HE carrier pressure: 18 PSI HE DIL pressure: 30 PSI Ampole temperature: 50°C Gas line temperature: 60°C Hot Box: 70°C CVD Ion gauge: Absent Process Kit (type/desc) INSERT LINER EXHAUST TXZ 200MM: 0021-02469 RING, LOWER, ISOLATOR: 0021-02155 RING, MIDDLE, ISOLATOR: 0021-02156 EDGE RING, PURGE HEATER, 200MM TXZ: 0021-03094 SCREW, CENTERING PURGE HEATER 200MM TXZ: 0021-07418 OUTER SHIELD W/O WINDOW, TXZ CHAMBER: 0021-03980 INNER SHIELD HP TXZ IMP. UNIF.: 0040-06127 PIN, LIFT, TXZ HEATER: 0200-01798 PLATE,BLOCKER,TXZ 200MM: 0021-35744 FACE PLATE, BKM3 TXZ 200MM: 0040-01878 CHAMBER INSERT 200MM TXZ CIP: 0200-00261 ISOLATOR, SIN, ENH, PUMPING LID, DXZ GECO: 0200-10163 TUBE GAS FEED: 0020-31425 LID LINER, HPTXZ: 0200-00689 Process: PVD TiN Platform: ENDURA Ch temp control: Without temp control Chamber type: WB Pump Type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib MFC #1: Argon MFC #1 type / size: Stec SEC-4400M 100 Sccm MFC #2: N2 MFC #2 type / size: Stec SEC-4400M 200 Sccm Source type: G-12 Target type / vendor: D-Bond 0.35" - Praxair Target part #: 7VX00135 Magnet type / part number: Type G-12 P/N 0010-20768 N2 Psi: 20 PSI Ar Psi: 20 PSI Power supply: MDX - L12M - 650 Shutter: Linkage Heater: SST Pedestal Unclamped 101 Process Kit (type/desc): Shield Mounting G12 btn hd Upper Shield Part No: 0020-25730 Lower Shield Part No: 0020-25077 Pedestal Part No: 0021-22028 Cover Ring Part No: 0020-24914 Process: Pre-clean Pedestal type: Preclean II Pik1 Power supply 1: 400 KHz Power supply 2: 13.56 MHz Gasline fittings: VCR Loadlock fittings: VCR MFC type: Millipore / STEC Paste chamber: NA Chamber cryo pump type: CTI 8F Enhanced Fast Regen Low Vib Umbilicals: Mainframe to controller: ~25 ft Mainframe to generator racks: ~25 ft Mainframe to cryo compressor: ~25 ft Main AC to system controller/sys. AC: ~25 ft Syst cont/sys AC to primary Gen rack: ~25 ft Main AC to primary generator rack: ~25 ft Main AC to pump frame: ~25 ft Main AC to Neslab heat exchanger: ~25 ft Monitor cable: ~25 ft Monitor2 cable: ~25 ft Monitor3 cable: ~15 ft EMO button guard ring: Yes Water leak detector: yes Buffer and transfer lid hoist: Yes Support Equipment: AMAT 0 Heat exchanger 0010-76467 Cryo compressors: (2) CTI Cryo pump 1 8135900G001 Neslab with resistivity meter Soft copy pdf manuals Currently in a fab 2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactor는 요구 사항이 높은 웨이퍼 제작 프로세스에 대한 향상된 성능 요구 사항을 제공하는, 경제적인 고급 다목적 클러스터 도구입니다. 이 원자로는 에칭 (etching) 및 증착 과정에서 안정적이고 균일 한 환경을 제공 할 수 있습니다. AKT Endura 5500 Reactor는 가스 분포가 우수하고 다양한 옵션을 갖춘 고급 진공 장비를 사용하여 단일, 이중 및 멀티 챔버 작동을 위해 특별히 설계되었습니다. AMAT ENDURA 5500 (AMAT ENDURA 5500) 은 최소한의 공간이 필요한 컴팩트한 디자인으로 제작되었으며, 3 입방 미터 미만을 차지하여 모든 생산 공정에 쉽게 맞출 수 있습니다. AKT ENDURA 5500을 사용하면 3차원 방향으로 쉽게 포지셔닝할 수 있으므로 보다 효율적이고 쉽게 설치, 실행할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Endura 5500에는 런을 보다 빠르게 처리하고 냉각 할 수있는 독특한 냉각 시스템이 있습니다. 이 다목적 클러스터 도구는 에칭 및 증착 프로세스에 대한 옵션도 제공합니다. 엔두라 5500 (Endura 5500) 에는 모듈 식 에치 및 증착실 (deposition chamber) 디자인이 포함되어 있으며, 동일한 공간에서 에칭이 이루어짐에 따라 증착이 가능합니다. 이 다목적 (Multipurpose) 기능을 사용하면 원자로 내에서 다양한 프로세스가 완료 될 수 있습니다. Endura 5500Reactor는 뛰어난 성능과 내구성을 통해 저렴한 비용과 낮은 유지 관리를 제공합니다. 가스 배송 장치는 처리량 증가 및 제품 수율 향상에 빌려줍니다. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500의 높은 진공 기능은 웨이퍼 에지 효과를 제거하면서 품질과 반복성을 향상시킵니다. 엔두라 5500 (ENDURA 5500) 에는 에칭 (etching) 및 증착 (deposition) 프로세스 모두에 대한 높은 수준의 제어 및 정확성을 제공하는 다양한 제어 옵션이 제공됩니다. 원자로에는 공정 제어기 (process control machine) 와 작동 패널 (operator panel) 이 포함되어 있어 작동 편리성이 뛰어납니다. 제어 툴은 빠른 프로세스 개발, 고성능, 정확성으로 여러 프로세스 매개변수를 관리할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS ENDURA 5500 의 첨단 기능과 컴팩트한 설계를 통해 다양한 애플리케이션에 적합합니다. 유연성, 간편한 설치로 모든 프로세스에 통합되는 동시에, 최적의 결과와 탁월한 성능을 제공할 수 있습니다. 원자로는 저렴한 비용, 높은 반복성, 향상된 처리량으로 에칭에서 증착까지의 모든 프로세스를 처리 할 수 있습니다.
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