판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9004064

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ID: 9004064
웨이퍼 크기: 8"
HP PVD system, 8" Wafer type: notch Buffer robot type: HP Transfer robot type: HP Buffer robot blade: metal Wafer sensors: cassette Loadlock type: Narrow body with tilt Fab installation: TTW Transfer robot blade: metal Software revision E8.86 Signal tower: Red-amber-green System umbilicals: 50 ft standard EMO's: momentary Loadlock slit valve O rings: Viton (black) No heat exchangers Hard drive: 5 Gb Chamber 2: PVD wide body Process 2: PVD sputter Susceptor / pedestal: 101 Process kit type: other Manometer config: Single Lid type: 11.3 Wall cooling: None Manometer 1: 100mTorr Throttle valve: none Heater / cathode cooling: other Pump configuration: Cryo Manometer 2: None RF gen / DC supply: AE MDX-L6 Endpoint system: No Turbo pump: No Slit valve oring: Viton black Heated valve stack: No Chamber orings: Viton brown RF match: None Chamber lid clamps: yes Magnet number: 0010-20328 Chamber gases: Gas 1 50sccm Nitrogen, STEC 4400 MC mtl seal, MFC18, Standard gas stick configuration Gas 2 140sccm Argon, STEC 4400 MC mtl seal, MFC19, Standard gas stick configuration Gas valves: Nupro Chamber 3: PVD wide body Process 3: PVD sputter Susceptor / pedestal: 101 Process kit type: other Manometer config: Single Lid type: 11.3 Wall cooling: other Manometer 1: 100mTorr Throttle valve: none Heater / cathode cooling: other Pump configuration: Cryo Manometer 2: None RF gen / DC supply: AE MDX-L6 Endpoint system: No Turbo pump: No Slit valve oring: Viton black Heated valve stack: No Chamber orings: Viton brown RF match: None Chamber lid clamps: yes Magnet number: 0010-20328 Chamber gases: Gas 1 140sccm Argon, STEC 4400 MC mtl seal, MFC2, Standard gas stick configuration Gas 2 100sccm Nitrogen, STEC 4400 MC mtl seal, MFC3, Standard gas stick configuration Gas valves: Nupro Chamber 4: PVD wide body Process 4: PVD sputter Susceptor / pedestal: 101 Process kit type: other Manometer config: Single Lid type: 11.3 Wall cooling: other Manometer 1: 100mTorr Throttle valve: none Heater / cathode cooling: other Pump configuration: Cryo Manometer 2: None RF gen / DC supply: AE MDX-L6 Endpoint system: No Turbo pump: No Slit valve oring: Viton black Heated valve stack: No Chamber orings: Viton brown RF match: other Chamber lid clamps: yes Magnet number: 0010-01198 Chamber gases: Gas 1 140sccm Argon, STEC 4400 MC mtl seal, MFC5, Standard gas stick configuration Gas 2 50sccm Nitrogen, STEC 4400 MC mtl seal, MFC6, Standard gas stick configuration Gas valves: Nupro Chamber A: Pass through Gas valves: Nupro Slit valve oring: Viton black Chamber orings: Viton black Chamber B: Cooldown Gas valves: Nupro Slit valve oring: Viton brown Manometer: None Heater / cathode cooling: PCW Chamber pump: Edwards Chamber orings: Viton black No turbo pump Chamber E: Orienter / Degas Chamber F: Orienter / Degas AC Rack damaged during transport 1995 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500은 반도체 구성 요소 및 시스템 제작에 사용되는 중요한 도구입니다. 주로 다양한 업계 표준을 충족하는 고내구성 (high-endurance), 저전력 부품 및 장치를 만드는 데 사용됩니다. AKT Endura 5500은 시중의 다른 여러 도구에 비해 성능 및 안정성이 향상되어 많은 웨이퍼 (wafer) 제작 프로세스에 이상적인 제품입니다. AMAT ENDURA 5500은 여러 웨이퍼 크기를 처리 할 수있는 단일 챔버, 수평 원자로입니다. 빠르고 고정밀 플라즈마 에칭 및 증착 프로세스를 위해 설계되었습니다. 이 장비 는 "에칭 '속도 와 효율성 을 향상 시키도록 설계 된 약실 바닥 에" 가스' 주입 "노즐 '을 사용 한다. AMAT Endura 5500의 포탑에는 복합 로드 잠금 (load lock) 및 가스 분사 포트 (gas injection port) 가 장착되어 있어 수동 작동에 비해 빠르고 저렴한 로딩 및 언로드가 가능합니다. 시스템은 반복 가능한 프로세스 사이클과 향상된 처리량을 지원하는 "코일 투 웨이퍼 (coil-to-wafer)" 모드를 포함하여 몇 가지 다른 작동 모드를 가지고 있습니다. APPLIED MATERIALS Endura 5500에는 진공 무결성을 위해 설계된 고급 석영 챔버와 뚜껑이 장착되어 있습니다. 이 챔버 (Chamber) 는 다양한 압력과 온도를 커버하면서 입자 수준이 낮은 고정밀 강착 및 에치 (etch) 프로세스를 가능하게합니다. 이 장치는 또한 강력한 프로그래밍 가능한 컨트롤러로 제작되었습니다. 이 컨트롤러에는 자동 (Automatic) 모드와 수동 (Manual) 제어 모드가 포함되어 있어 웨이퍼 (Wafer) 제작 프로세스의 모든 부분을 처리합니다. ENDURA 5500에는 수율을 더욱 향상시키기 위해 설계된 고급 웨이퍼 클리닝 머신도 있습니다. 파퍼 (wafer) 표면에서 입자를 효율적으로 제거하면서 빠른 속도로 회전하는 특수 전력 구동 브러시 (brush) 를 사용합니다. 이 도구에는 안전한 웨이퍼 클리닝 및 번인 (burn-in) 프로세스 제어를 위해 신속하게 응답하는 실시간 입자 모니터도 포함되어 있습니다. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500은 가장 고급 반도체 장치의 서브 미크론 정밀 제조를위한 매우 신뢰할 수있는 도구입니다. 이 제품은 높은 처리량, 단일 웨이퍼 (single-wafer) 프로세스에서 높은 품질의 성능을 제공하여 Wafer 구성 작업을 위한 경제적인 선택입니다. 이 자산은 몇 년 동안 정확하고 정확한 작동을 보장 할 수있는 높은 내구성, 저전력 구성 요소로 제작되었습니다.
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