판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #293829116
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ID: 293829116
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1998
Sputtering system, 8"
(2) PVD Endura type remote generator rack
(2) TxZ Gas cabinet
Buffer HP Robot, Transfer robot VHP Robot
AMAT 0 Heat exchanger
AMAT NESLAB III
AC Rack
Umbilical cable length: 25 feet
Chambers:
LLA Load lock A Narrow body with auto tilt
LLB Load lock B Narrow body with auto tilt
E / F Orient / Degas orienter / Standard degas
Clear lid wafer lifter
Cool down clear lid wafer lifter
Buffer HP Robot with metal blade
Transfer VHP Robot with metal blade
IMP Chamber:
Wide body chamber
IMP Source with magnet
Motorized lift assembly
UHV Gate valve (3-Position)
A101 Heater
Shutter assembly
HFV- 8000
MDX - L12 M-650 DC Power supply
HP T x Z Chamber:
Heater lift assembly
Gate valve
HP TxZ Heater
PDX - 900 - 2V
PC II Resonator:
Chamber body
Wafer lift
RF Match
RF CPS1001S
RF LF - 10 A
Missing parts:
9600 System Cryogenics compressor missing
(3) OB-8F Cryogenics pump (3PH) Missing (Buffer, X-fer, IMP)
(4) 361C Turbo pump missing (PC II 2ea, TxZ 2ea)
(4) Resistor on TxZ Lid missing
Operating system: VMS
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500은 고급 반도체 응용 분야에 사용되는 고성능 전송 및 리소그래피 원자로입니다. AKT Endura 5500 장비는 빠르고 정확한 패턴 전송을 가능하게 하며, 도핑 된 polysilicon, 단일 및 이중 계층 polysilicon 게이트 스택, 하드 마스크 등 여러 표준 프로세스 재료를 지원합니다. 이 시스템은 대형 고정밀 챔버 (high-precision chamber), 고속 냉각 (fast cooling) 및 다중 단계 리소그래피 (multi-stage lithography) 프로세스를 통해 전체 웨이퍼 표면에서 정확한 패턴 복제를 보장합니다. AMAT ENDURA 5500은 또한 DRIE (Deep Reactive Ion Etching) 및 PLD (Pulsed Laser Deposition) 와 같은 고급 프로세스 기능을 제공하여 오늘날의 울트라틴 장치를 처리 할 수 있습니다. AKT ENDURA 5500은 실리콘, 갈륨 비소, 실리콘 온 인슐레이터, 유리 등 다양한 기질을 보유 할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Endura 5500 장치는 이중 서보 제어 스테이지 메커니즘으로 제작되었으며, 광범위한 온도에서 작동하기에 탁월한 정확성과 반복 성을 제공합니다. 전체 프로세스를 모니터링하는 3 구역, 고해상도 간섭 현미경 (IRM) 기계가 특징입니다. 이 도구에는 강력한 프로세서가 포함되어 있어 광범위한 리소그래피 (lithography) 애플리케이션에 대한 중요 치수의 실시간 판독을 가능하게 합니다. 또한, AMAT Endura 5500은 필름 및 구조물의 접착을 향상시키기 위해 저온 프로세스에 대한 열 어닐링을 지원합니다. APPLIED MATERIALS ENDURA 5500에는 공수 오염 물질에 대한 노출을 크게 줄이는 독특한 핫로드/콜드 언로드 기능도 포함되어 있습니다. 이를 통해 디바이스 품질을 크게 향상시키고, 전체 디바이스 운영 비용을 절감할 수 있습니다. 또한, ENDURA 5500은 또한 고품질, 자기 부양, 모터 구동 셔터를 갖춘 진공 챔버 (vacuum chamber) 를 갖추고 있으며, 반복 가능한 작업을 위해 반응 챔버를 정확하게 종료 할 수 있습니다. 고급 리소그래피 기능, 반복 가능성 및 정확성의 조합으로 AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500은 고급 반도체 응용 프로그램에 이상적인 솔루션입니다. 즉, 고객이 가장 상업적으로 중요한 프로세스에 필요한 성능과 안정성을 제공합니다.
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