판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #194704
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판매
ID: 194704
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1993
Sputtering system, 8"
Wafer size: 8" flat (not notch)
Process: AlCu/ TiN/Ti
Configuration:
Chamber 1: AlCu
Chamber 2: TiN
Chamber 3: Ti
Chamber 4: Ti
Chamber 5: cooling chamber
Preheat
Etch
Clamp (not electrostatic chuck)
Robot:
Buffer: AMAT HP, ceramic blade
Transfer: AMAT HP, metal blade
System monitor:
1: stand alone
2: through the wall
3: stand alone
Includes (1) each monitor rack
Load lock:
Narrow body with tilts in/out
No sliding sensor kit
Chamber A:
- Chamber type: Pass through
- Chamber Lid: Metal Lid
- Cooling method: NA
Chamber B:
- Chamber type: Cool down
- Chamber Lid: Metal lid
- Cooling method: By PCW
Chamber D:
- Chamber type: Preclean I
Chamber F:
- Chamber type: Orient/Degas
Chamber 1:
- Chamber type: Standard body
- Chamber process: AlCu, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K SLAVE
- RF Gen/DC power supply2: A, MDX-20K MASTER
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: P/N 0010-70086
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 2:
- Chamber type: Wide Body
- Chamber process: TiN
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: : CTI CRYO 8F 2phase
- Source(Lid) type : UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 3:
- Chamber type: Wide Body
- Chamber process: Ti
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 4:
- Chamber type: Wide body
- Chamber process: Ti, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Includes:
- Chamber type: Wide body
- Chamber process: Ti, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: UNIDENTIFIED
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas
Installed
1993 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Series Reactor는 고급 플라즈마 에칭 및 증착을위한 최첨단 도구입니다. AKT Endura 5500은 뛰어난 기능, 정확성, 낮은 TCO (소유 비용) 및 유지 관리 기능을 모두 컴팩트하고 사용하기 쉬운 시스템으로 제공하도록 설계되었습니다. AMAT ENDURA 5500은 다양한 레시피에 대한 프로세스 유연성, 균일성 측면에서 에칭 (etching) 및 증착을위한 광범위한 서비스를 제공합니다. 특허를 획득한 Uniformity Control Technology, Advanced Ultra High Plasma, etch-time control과 같은 기능을 통해 사용자는 프로세스를 최적화하여 탁월한 성능을 얻을 수 있습니다. 엔두라 5500 (ENDURA 5500) 은 또한 뛰어난 안전 및 환경 기능을 제공하여 실험실 및 생산 수준 운영에 이상적인 선택입니다. 혁신적인 Ultra-Flow 프로세스, 열 최적화, 동적 압력 제어 (Dynamic Pressure Control) 는 기판을 고온 및 부식 물질에 노출되지 않도록 보호하면서 일관된 결과를 보장합니다. 이 시스템은 성능과 정확성을 더욱 향상시키기 위해 다양한 도구 (tools) 를 제공합니다. Endura 5500은 적용에 따라 LEB (Linear Electron Beam) 배출 장치, 전자 레인지 소스 및 이온 빔 소스와 같은 특수 프로세스 하드웨어를 활용할 수 있습니다. 또한 최적화된 소스 자료, 소스 파워 (source power), 난류 관리 (turbulence management) 기능을 사용하여 프로세스 반복성과 균일성을 극대화할 수 있습니다. APPLIED MATERIALS 엔두라 5500 (Endura 5500) 은 사용 편의성 및 다양한 안전 기능을 결합한 고성능 디자인으로, 다양한 플라즈마 에칭 및 증착 어플리케이션에 이상적인 선택입니다. 원자로는 신뢰성이 높고 에너지 효율성이 높으며, TCO (총소유비용) 와 유지보수 비용 (유지 보수 비용) 이 낮아 일관된 결과를 제공합니다. 또한, AMAT 의 '애프터 세일즈 (after-sales)' 지원 패키지가 함께 제공되며, 사용자는 장비가 앞으로 몇 년 동안 작동할 수 있도록 안심할 수 있습니다.
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