판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #166249

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ID: 166249
빈티지: 1993
Sputtering system, 8" Wafer size: 8" flat (not notch) Configuration: Chamber 1: AlCu Chamber 2: TiN Chamber 3: Ti Chamber 4: Ti Preheat Etch Clean bench Clamp (not electrostatic chuck) Robot: Buffer: AMAT HP, ceramic blade Transfer: AMAT HP, metal blade System monitor: 1: stand alone 2: through the wall 3: stand alone (1) each monitor rack Load lock: Narrow body with tits in and out No sliding sensor kit Chamber A - Chamber type: Pass through - Chamber Lid: Metal Lid - Cooling method: NA Chamber B - Chamber type: Cool down - Chamber Lid: Metal lid - Cooling method: By PCW Chamber D - Chamber type: Preclean I - Chamber process: - RF Gen/DC power supply1: - RF Gen/DC power supply2: - Turbo pump Chamber F: - Chamber type: Orient/Degas Chamber 1 - Chamber type: Standard body - Chamber process: AlCu, Preheat - Process kit type/items/material: UNKNOWN - RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K SLAVE - RF Gen/DC power supply2: A, MDX-20K MASTER - Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase - Source (Lid) type: P/N 0010-70086 - Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300 - Process gas: Ar, N2 Chamber 2 - Chamber type: Wide Body - Chamber process: TiN - Process kit type/items/material: UNKNOWN - RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER - RF Gen/DC power supply2: N/A - Chamber pump: : CTI CRYO 8F 2phase - Source(Lid) type : UNIDENTIFIED - Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300 - Process gas: Ar, N2 Chamber 3 - Chamber type: Wide Body - Chamber process: Ti - Process kit type/items/material: UNKNOWN - RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER - RF Gen/DC power supply2: N/A - Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase - Source (Lid) type: UNIDENTIFIED - Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300 - Process gas: Ar, N2 Chamber 4 - Chamber type: Wide body - Chamber process: Ti, Preheat - Process kit type/items/material: UNKNOWN - RF Gen/DC power supply1: AE MDX-10K MASTER - RF Gen/DC power supply2: N/A - Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase - Source (Lid) type: UNIDENTIFIED - Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300 - Process gas: Ar, N2 Includes: - Heat exchanger type: Neslab III 1ea - Compressor type: CTI 8500 2ea - EMO on source cover : No - Shutter : No - SBC : V440 - KSI Shild Treatment DC Power Supply 1ea - AE, MDX-052, SHILD TREATMENT CONTROLLER - COMDEL, CPS-1001 RF POWER SOURCE 60.00Hz - 15V P.S. ASSEMBLY / 24V P.S. ASSEMBLY - 2Board MISC. on MASS STROAGE BOARD Includes pumps Installed 1994 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500은 섬세한 마이크로 전자 부품의 고정밀 처리 및 생산을 위해 설계된 플라즈마 에치 원자로입니다. AKT Endura 5500은 공정 챔버, 외부 진공 펌프 및 기타 여러 주변 장치로 구성된 완전 밀폐 장비입니다. 이 시스템은 안정적이고 일관된 프로세스 결과를 제공하도록 설계되었으며, 에칭, 패턴 및 기타 정밀 마이크로 일렉트로닉 (microelectronic) 처리 요구에 이상적입니다. AMAT ENDURA 5500의 공정 챔버 (Process Chamber) 는 내에서 프로세스 구성 요소를 보호하기 위해 세라믹 윈도우 포트가 늘어선 알루미늄 돔 인클로저입니다. 원자로는 다양한 가스와 에너지원을 사용하여 복잡한 패턴을 만들고 정의합니다. "가스 '" 실린더' 나 "매니폴드 '는" 애플리케이션' 에 따라 챔버 '에 부착 될 수 있으며, "프로그램' 할 수 있는" 컨트롤러 '의 지시 에 따라 표면 물질 과 상호 작용 하는 반응 화학 을 제공 한다. 공정 제어에 필요한 이온 에너지를 제공하기 위해 전자기장 생성기 (electromagnetic field generator) 도 설치되어 있습니다. ENDURA 5500은 조정 가능한 압력, 흐름 및 온도 조절 설정을 허용하며, 이는 반응성 가스 밸브 (reactive gas valve) 와 챔버 열전대 (chamber thermocouple) 로 관리됩니다. 압력은 2 단계 외부 진공 펌프에 의해 유지되며, 이는 시작할 때 자동으로 가스를 초과합니다. 이것 은 공정 "챔버 '가 생산 이 시작 되기 전 에 불순물 이 없도록 한다. AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT ENDURA 5500은 제어 외에도 운영자의 고급 모니터링 및 진단 도구를 제공하여 생산성을 극대화합니다. 여기에는 실시간 데이터 디스플레이 (real-time data display), 압력 모니터 (pressure monitor) 및 프로세스 지속 시간을 관리하도록 설정할 수 있는 정밀 타이머가 포함됩니다. 또한, 이 장치에는 과압 및 과열 방지와 같은 안전 기능이 내장되어 있습니다. 이는 최고 품질의 제품과 효율적인 생산률을 보장합니다. Endura 5500은 신뢰성으로 잘 알려져 있으며 일관되게 고품질 에칭 결과를 제공합니다. 이것은 다양한 microelectronic 처리 요구에 이상적인 선택입니다. 조정 가능한 컨트롤, 진단 도구, 내장 안전 기능도 기계의 효율성이 높고 우수한 결과를 제공합니다.
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