판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #166248
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판매
ID: 166248
Sputtering system, 8"
Process: AlCu / TiN / Ti
Specifications:
Robot:
Buffer: AMAT HP, ceramic blade
Transfer: AMAT HP, metal blade
System monitor:
1: stand alone
2: through the wall
3: stand alone
(1) each monitor rack
Load lock:
Narrow body with tits in and out
No sliding sensor kit
Chamber A
- Chamber type: Pass through
- Chamber Lid: Metal Lid
- Cooling method: NA
Chamber B
- Chamber type: Cool down
- Chamber Lid: Metal lid
- Cooling method: By PCW
Chamber C
- Chamber type: N/A
- Chamber process:
- RF Gen/DC power supply
- Turbo pump:
- Process gas
Chamber D
- Chamber type: Preclean I
- Chamber process:
- RF Gen/DC power supply1:
- RF Gen/DC power supply2:
- Turbo pump
Chamber F:
- Chamber type: Orient/Degas
Chamber 1
- Chamber type: Standard body
- Chamber process: AlCu, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K SLAVE
- RF Gen/DC power supply2: A, MDX-20K MASTER
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: P/N 0010-20059
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 2
- Chamber type: Wide Body
- Chamber process: TiN
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: : CTI CRYO 8F 2phase
- Source(Lid) type : P/N 0010-20059
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 3
- Chamber type: Wide Body
- Chamber process: Ti
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE, MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: P/N 0010-70059
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Chamber 4
- Chamber type: Wide body
- Chamber process: Ti, Preheat
- Process kit type/items/material: UNKNOWN
- RF Gen/DC power supply1: AE MDX-10K MASTER
- RF Gen/DC power supply2: N/A
- Chamber pump: CTI CRYO 8F 2phase
- Source (Lid) type: P/N 0010-20059
- Pedestal type: A101 HEATER, Lifter : P/N 0010-20300
- Process gas: Ar, N2
Includes:
- Heat exchanger type: Neslab III 1ea
- Compressor type: CTI 8500 2ea
- EMO on source cover : No
- Shutter : No
- SBC : V440
- KSI Shild Treatment DC Power Supply 1ea
- AE, MDX-052, SHILD TREATMENT CONTROLLER
- COMDEL, CPS-1001 RF POWER SOURCE 60.00Hz
- 15V P.S. ASSEMBLY / 24V P.S. ASSEMBLY
Installed
1994 vintage.
AKT/AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 Reactor는 현대 반도체 장치 제조업체의 요구를 충족시키기 위해 설계된 차세대 플라즈마 에칭 장비입니다. 이 원자로 시스템은 광범위한 고급 CMOS, 3D NAND 및 DRAM 메모리 및 논리 장치에 대한 정확한 에칭 프로세스를 제공 할 수 있습니다. 고밀도 플라즈마 소스와 결합된 독점적 인 통합 노즐을 사용하여 AKT 엔두라 5500 (Endura 5500) 은 우수한 에치 속도, 넓은 웨이퍼 영역의 높은 균일 성, 처리량 향상을 위해 빠른 챔버 사이클링을 제공 할 수 있습니다. AMAT ENDURA 5500에는 강력한 진공 펌프 장치 (vacuum pump unit) 와 높은 동기 압력이 제공되어 공정 챔버에서 가스 처리 물질을 빠르게 제거합니다. 이 기계는 최신 플라즈마 소스 (Plasma Source) 및 유통 기술 (Distribution Technology) 을 갖추고 있으며, 사용자는 실시간 및 미세 조정 에칭 결과에서 에치 매개변수를 조정하여 처리 중 섬세한 표면의 손상을 최소화합니다. 이 도구의 플라스틱 인클로저 (plastic enclosure) 는 음향 노이즈를 약화시키고 진동 및 전자기 간섭으로부터 자산의 정밀 부품을 보호하도록 설계되었습니다. 또한 통합 가스 전달 모델 (gas delivery model) 과 벌크 가스 공급 (bulk gas supplies) 이 포함되어 여러 에친트 가스의 정확한 전달 및 제어가 가능합니다. APPLIED MATERIALS ENDURA 5500에는 구성 가능한 워크스테이션 및 컨트롤러가 장착되어 있으며, 사용자는 재료 또는 제품 요구 사항에 따라 에칭 레시피를 저장, 리콜, 조정할 수 있습니다. 추가 기능에는 다중 프로세스 기능, 수동/자동 흐름 제어, 구성 가능한 배치 매개변수, 진단 및 보고가 포함됩니다. AMAT Endura 5500은 Class 1 Clean Room 환경에서 깨끗한 작동을 위해 설계되었으며 수동/원격/콘솔 작업을 포함하여 유연한 작동을 위해 여러 구성으로 사용할 수 있습니다. 이 원자로 장비는 최고 품질 표준 (Quality Standard) 으로 제조되어 안정적이고 반복 가능한 결과를 제공합니다. 단일, 유연한 플랫폼에서 향상된 수익률, 처리량 및 운영 경제성을 제공합니다.
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