판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 HP #9223524
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ID: 9223524
웨이퍼 크기: 8"
PVD System, 8"
Multi-chamber sputtering system
Process: Copper
Dry pump type: EBARA AA40W (System)
LLA
LLB
(2) Al
(2) Ta PVD
(2) PCII
(2) DG
System controller
SMIF System:
(2) LPT 2200
(2) Load locks
Handler system:
Buffer Hp
Transfer VHp
(2) Hoisters
Process chambers:
(2) ImpTa
(2) ClampAl
(2) PcII
(2) Degas
Main AC
NESLAB Chiller
(3) General racks
(2) Compressors
(4) EBARA Pumps
Chamber 1: B101 IMP Ta
Shutter disk
Body type: WB
Source type: Vectra IMP
Magnet type: RH-2
MFCs: Ar 140sccm
DC Generator: ADVANCED ENERGY MDX-L6
RF Generator:
ADVANCED ENERGY HFV8000 (RF Coil)
COMDEL CX-600S (AC Bias)
RF Match:
HE
BIAS
Vectra IMP
010CAP 2MHz (RF Coil)
13.56 MHz (AC Bias)
Cryo Pump: CTI On-Board 8F
No turbo pump
Chamber 2 & 3: Clamp Al
Body type: WB
Source type: 12.9''
Magnet type: Al A, 12.9''
DC Generator: ADVANCED ENERGY MDX-L12M
MFCs:
Ar 140sccm
Ar-H 70sccm
Cryo pump: CTI On-board 8F
No shutter disk
No RF Generator
No RF Match
No turbo pump
Chamber: 4 B101 IMP Ta
Shutter disk
Body type: WB
Source type: Vectra IMP
Magnet type: RH-2
MFCs: Ar 140 sccm
ADVANCED ENERGY MDX-L6 DC Generator
RF Generator:
ADVANCED ENERGY HFV8000 RF Coil
COMDEL CX-600S AC Bias
RF Match:
HE
BIAS
Vectra IMP
010CAP 2MHz (RF Coil)
13.56MHz (AC Bias)
Cryo pump: CTI On-board 8F
No turbo pump
Chamber A & B: Cool down
Dry pump: EBARA AA20N
Pedestal type: Clncool
Chamber C & D: PCII
Process: Etch
PK Type: PIKII Pinless
Dry pump: EBARA AA20N
Turbo pump: LEYBOLD TMP
RF Generator:
COMDEL CPS1001S 13.56MHz
RFPP LF10A 400KHz
RF Match: PC II 13.56MHz
MFCs:
Ar 28sccm
Ar 420sccm
No DC Generator
No cryo pump
Chamber E & F: O/D
Degas type: Standard
Buffer & Transfer:
Cryo pump: CTI On-board 8F
Robot type: HP
Load lock:
Body type WB
Venting & pumping mode:
Soft slow
Fast
Wafer mapping: Standard
No scrubber / CDO
Heat exchanger: NESLAB III (PVD Chm)
Cryo compressor: Water cooled 9600
CIM Linked.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 5500 HP Reactor는 고급 재료 어플리케이션을 위해 고정밀 처리를 안정적으로 수행하도록 설계된 컴팩트하고 자동화된 CVD 도구입니다. 이 원자로는 미크론 수준의 정확도와 수직 스캐닝 시간 (최대 10 분) 으로 탁월한 속도와 정확도를 자랑합니다. AMAT Endura 5500 HP에는 견고하게 설계된 챔버 (Chamber) 가 장착되어 있으며, 대규모 배치 작업뿐만 아니라 가장 복잡한 임무에 적합합니다. 또한 이중 주파수 플라즈마를 활용하여 다양한 프로세스 조건에서 최적화된 증착 (deposition) 기능을 사용할 수 있습니다. 이중 엔진, 고성능 RF 전원 모듈, 다중 독립 증착 소스 (Multiple Independent Deposition Source) 및 조절 가능한 챔버 온도 (Chamber Temperature) 는 대부분의 고급 응용 프로그램에 대해 매우 반복 가능한 프로세스 매개변수 제품군을 제공합니다. Endura의 뛰어난 기능에는 강력한 제어 및 자동화 기능이 포함됩니다. 에프펙터 (end-effector) 가 통합 된 고급 로봇 암 (advanced robot arm) 을 사용하여 챔버를 통해 웨이퍼 캐리어의 궤적을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한 사용자 친화적 그래픽 사용자 인터페이스 (Graphical User Interface) 시스템을 통해 빠른 매개변수 변경 및 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있습니다. 로봇 암, 쿼츠 챔버 및 가스 전달 시스템과 같은 전동 챔버 요소는 APPLIED MATERIALS Endura 5500 HP를 매우 정밀한 박막 기능에 대해 무한히 조정할 수 있습니다. 이 원자로는 오존 기반 공정과 같은 유기 금속 시약 (organo-metallic reagent) 을 사용하는 증착 공정과 고체 상 전구체를 사용하는 증착 공정에 사용될 수있다. Endura 5500 HP는 뛰어난 안정성과 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 고급 기능은 프로세스 프로파일링, 진단, 원격 모니터링, 데이터 로깅 등 유연한 프로세스 개발 기능을 제공합니다. 원자로 는 또한 "오퍼레이터 '와" 시스템' 자체 를 잠재적 인 위험 으로부터 보호 하기 위한 여러 가지 안전 기능 을 가지고 있다. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 5500 HP는 가장 어려운 증착 응용 프로그램을 처리 할 수있는 효율적이고 안정적인 원자로입니다. 첨단 소재 응용 프로그램 (Advanced Materials Application) 에 이상적인 선택으로, 전례없는 수익률로 고품질 필름과 표면을 생산할 수 있습니다.
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