판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 HP #293830683

AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 5500 HP는 다양한 고급 반도체 응용 프로그램, 특히 잔기의 에칭에 사용되는 플라즈마 에치 원자로입니다. AMAT Endura 5500 HP는 웨이퍼를 효율적으로 처리하고 탁월한 열 격리를 제공하는 다면적 챔버 설계를 갖추고 있습니다. 이 모델은 뛰어난 균일성으로 정확하고 반복 가능한 프로세스를 가능하게합니다. 또한 APPLIED MATERIALS Endura 5500 HP는 고급 플라즈마 소스 (Plasma Source) 와 새로운 외부 RF 일치 (External RF Match) 장비를 갖추고 있어 플라즈마의 형태와 전력을 특정 처리 요구에 맞게 조정할 수 있습니다. Endura 5500 HP는 원격, 수동 또는 완전 자동화 방식으로 작동할 수 있습니다. 수동 (manual) 모드에서 사용자는 직관적이고 친숙한 사용자 인터페이스를 사용하여 원자로 매개변수를 제어하고, 실시간 성능에 따라 처리 시간을 변경할 수 있습니다. 리모드 (Remote Mode) 를 사용하면 원자로 (Reactor) 를 원격으로 모니터링하고 제어하여 챔버를 원격으로 조정할 수 있는 유연성을 제공합니다. 마지막으로, 사용자는 최대 32 개의 챔버 설정 (chamber setting) 을 프로그래밍할 수 있는 완전 자동화 작동 모드를 활용할 수 있으므로 원하는 챔버 매개변수 (chamber parameters) 범위에 비해 높은 재현성을 제공합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 5500 HP는 활성 감속 장치와 결합 된 고속 흐름 가스 전달 시스템을 사용하여 저온, 저압, 고균일성의 업계 최고의 조합을 제공합니다. 이 디자인은 박막 증착에서 심해 (deep etching) 에 이르기까지 다양한 응용 분야를 갖추고 있습니다. 또한, AMAT Endura 5500 HP의 혁신적인 디자인은 다양한 다른 반도체 처리 작업에 사용될 수 있습니다. APPLIED MATERIALS Endura 5500 HP의 챔버에는 프로세스 챔버 뷰포트가 장착되어 있어, 사용자는 실시간으로 처리를 모니터링할 수 있습니다. 이 뷰포트를 사용하여 사용자는 챔버 (chamber) 를 열 필요 없이 에치 패턴을 관찰할 수 있습니다. 또한 5500 HP 는 일련의 진단/모니터링 포트를 통해 기본 처리 매개변수 (processing parameter) 와 챔버 (chamber) 성능을 심층적으로 검토할 수 있습니다. 이 기능은 사용자에게 근본 화학 물질 (underlying chemistry) 에 대한 이해와 에칭되는 기질의 품질 (quality) 을 더욱 깊이 이해할 수있는 능력을 제공합니다. Endura 5500 HP 플라즈마 에치 (etch) 원자로는 최첨단 기계이며 잔기 및 기타 반도체 처리 요구의 에칭을위한 가장 신뢰할 수있는 도구 중 하나입니다. 강력한 디자인과 다양한 운영 방식 덕분에 AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 5500 HP는 사용자가 고급 및 안정적인 에칭 프로세스를 개발하기에 이상적인 플랫폼을 제공합니다.