판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 2 #293827409
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ID: 293827409
빈티지: 2016
Physical Vapor Deposition (PVD) system
Part number / Description
0410-10000 / System, 12"
FAM300E2 / MDP E2 Endura, 12"
0415-10014 / -
0415-10346 / Impulse AIN
0415-10046 / Dual mode degas
0415-10054 / RGA Manual valve
0395-09095 / Infopad pos A or B
0395-09026 / E78 Ionizer
0395-09073 / Upper E84 Data logging sensors and cables
0395-09071 / TIRIS with RF E99 Carrier ID
0395-00114 / Operator access switch
0395-09056 / Remote flat panel monitor on stand
0395-09007 / Effective 75 Feet with 66 Feet
0415-10080 / Umbilical’s 75 Feet Mainframe to equipment rack
TR-STND-22 / Standard training package
WT-12MO / Standard 12-month warranty
0415-10082 / FIF Generic kit
0415-10089 / Lifting aids
0415-10090 / Maintenance lift
0395-09029 / FI Align and levelling tool kit
0395-09039 / Ionizer calibration tools
0395-09055 / Outrigger levelling tools
0395-09031 / FI Service lift
0395-09123 / Load Port Service Tool (7) Salop
0395-09013 / Controller recovery tools
0395-09066 / YAT Teach tools, 12”
0415-10288 / Cons kit - Impulse
0415-10313 / Shutter disk, ESC, Ti, AL Arc spray
2016 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2 원자로는 반도체 처리를 위해 설계된 혁신적인 에칭 및 증착실입니다. AMAT SPECTOR 시리즈 고급 화학 제품의 최신 혁신 중 하나입니다. AMAT Endura 2는 2 세대 에칭 및 증착 플랫폼이며, 경쟁에서 벗어난 몇 가지 혁신이 특징입니다. APPLIED MATERIALS Endura 2는 챔버가 전례없는 챔버 압력 및 공정 매개변수를 달성 할 수있는 독특한 이중 펌핑 (dual-pumped) 구성을 특징으로합니다. 또한 챔버 볼륨 (chamber volume) 과 로우 챔버 프로파일 (low chamber profile) 이 특징으로, 주어진 웨이퍼 크기에 대해 증착 가능한 총 표면 면적을 크게 줄여 활용도가 높아지고 웨이퍼 당 비용이 절감됩니다. 원자로에는 에칭 챔버 (eching chamber) 와 증착실 (deposition chamber) 의 두 개의 챔버가 장착되어 있습니다. 에칭 챔버는 균형 잡힌 실시간 반응성 이온 에칭 (real-time reactive ion etching) 기술을 사용하여 종횡비와 지형을 정확하게 제어하는 기능 프로파일을 형성합니다. 증착실은 유도 결합 플라즈마 (ICP) 소스를 사용하여 단단한 두께의 균일성과 정확한 구성 제어를 가진 박막을 증착합니다. 엔두라 2 (Endura 2) 는 또한 자동 웨이퍼 처리 메커니즘을 특징으로합니다. 예를 들어, 챔버와 웨이퍼 (wafer) 매핑 장비 사이에서 웨이퍼를 정확하고 효율적으로 옮길 수있는 로봇 암 (robot arm) 과 개별 웨이퍼를 식별하고 해당 위치를 추적하는 웨이퍼 매핑 장비가 있습니다. 또한 에칭 (etching) 및 증착 프로세스의 매개변수를 모니터링하고 최적화하는 정교한 소프트웨어가 특징입니다. AMAT/APPLIED MATERIALS Endura 2에는 데이터 수집 및 분석을위한 고급 시스템이 제공됩니다. 이 고급 장치는 실시간 모니터링, 후처리 분석, 에칭 및 증착 매개변수를 제공합니다. AMAT Endura 2 기계는 높은 안전 표준으로 설계되었습니다. 비상 차단 시스템, 긴급 환기 시스템, 고급 모니터링 시스템 등 여러 가지 이중 안전 기능이 있습니다. 이러한 기능은 인력과 장비의 안전을 보장합니다. APPLIED MATERIALS Endura 2는 반도체 처리 산업에 대한 새로운 표준을 설정하는 혁신적인 에칭 및 증착실입니다. 독보적인 이중 펌프 구성, 로우 챔버 프로파일 (low chamber profile), 자동 웨이퍼 처리 (automated wafer handling) 메커니즘을 통해 전례없는 수준의 프로세스 제어 및 정밀도를 달성할 수 있습니다. 또한, 고급 데이터 획득 및 분석 도구는 프로세스 매개 변수에 대한 실행 가능한 통찰력을 제공합니다. 안전 및 신뢰성은 고급 안전 기능으로 더욱 보장됩니다. 결과적으로 Endura 2는 저렴한, 고성능, 효율적인 반도체 프로세싱에 이상적인 선택입니다.
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